[实用新型]一种电镀加工产品用分析天平有效
申请号: | 202220996281.0 | 申请日: | 2022-04-26 |
公开(公告)号: | CN217605108U | 公开(公告)日: | 2022-10-18 |
发明(设计)人: | 朱虬 | 申请(专利权)人: | 无锡鼎亚电子材料有限公司 |
主分类号: | G01G21/02 | 分类号: | G01G21/02;G01B5/00 |
代理公司: | 北京睿博行远知识产权代理有限公司 11297 | 代理人: | 侯风波 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电镀 加工 产品 分析 天平 | ||
本实用新型公开了一种电镀加工产品用分析天平,包括平体和刻度托片,所述平体的上端安装有玻璃框,且玻璃框的顶端安置有顶座,所述刻度托片安装于顶座的侧端,所述平体的左右两端均安置有滑轨,且滑轨的外侧安置有滑纳机构,所述平体的底部左右两端均安置有螺条,且螺条的外侧安装有支盘,所述支盘的端壁开设有支孔,且支盘的底端壁安置有支垫。本实用新型通过螺条和支孔的旋转,调节螺条和支盘的相对位置,将支盘下移,方便利用支盘对本体底部进行支撑,而支盘设置有四个,且支盘分别位于平体底部的四个端角处,不同的支盘调节至不同的高度位置,可对平体进行倾斜支撑,方便本体置于凹凸、倾斜端面。
技术领域
本实用新型涉及电镀加工技术领域,具体为一种电镀加工产品用分析天平。
背景技术
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺,而电镀后产品在进行检验时,需要使用到分析天平。
现有的分析天平存在的缺陷是:
1、现有的分析天平不便于将支撑部分进行多节点调节,导致其支撑时无法适应不同的端面,如凹凸、倾斜端面,使用时的可操控性较差;
2、现有的分析天平无法对检测电镀产品进行便捷的存放,本体的收纳性和组接性较差。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种电镀加工产品用分析天平,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种电镀加工产品用分析天平,包括平体和刻度托片,所述平体的上端安装有玻璃框,且玻璃框的顶端安置有顶座,所述刻度托片安装于顶座的侧端,所述平体的左右两端均安置有滑轨,且滑轨的外侧安置有滑纳机构,所述平体的底部左右两端均安置有螺条,且螺条的外侧安装有支盘,所述支盘的端壁开设有支孔,且支盘的底端壁安置有支垫。
优选的,所述滑纳机构包括纳盘、盘腔、网口、滑座和垫条,所述纳盘的内部开设有盘腔,且纳盘的内侧端壁开设有网口,所述纳盘的内侧端安置有滑座,且滑座的中部安装有垫条。
优选的,所述盘腔关于纳盘的中心对称分布,且盘腔、网口之间相互连通。
优选的,所述盘腔、网口均关于纳盘的中心对称分布,同时滑座通过轴与垫条构成旋转结构。
优选的,所述玻璃框、顶座之间相固定连接,且顶座、刻度托片之间相互固定连接,而且顶座、刻度托片构成“L”字形状。
优选的,所述螺条通过支孔与支盘相螺纹连接,且螺条、支盘均关于平体的中心对称分布,而且支垫关于支盘的中心呈环形分布。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型通过盘腔可添加干燥粉剂,粉剂通过网口透气,对纳盘侧端干燥保护,纳盘端搭载的电镀产品具有一个干燥环境,方便更好的存储,而且盘腔、网口关于纳盘的中心对称,两个盘腔、网口对纳盘内侧均匀的干燥保护。
2、本实用新型通过轴旋转,转动垫条,使垫条向滑座侧端翻转,之后利用两个同一水平面的垫条垫付、支撑电镀产品,方便检测前后的产品进行存放,便于取存物料,快捷的适配天平进行检测。
3、本实用新型通过螺条和支孔的旋转,调节螺条和支盘的相对位置,将支盘下移,方便利用支盘对本体底部进行支撑,而支盘设置有四个,且支盘分别位于平体底部的四个端角处,不同的支盘调节至不同的高度位置,可对平体进行倾斜支撑,方便本体置于凹凸、倾斜端面,而且支垫为橡胶材质,让支盘支撑时,更加的柔和,同时顶座、刻度托片侧可搭载电镀产品,利用刻度托片上的刻度标示,对产品尺寸进行检测。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型的顶座和刻度托片立体结构示意图;
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