[实用新型]一种电镀加工产品用分析天平

权利要求书

1.一种电镀加工产品用分析天平，包括平体(1)和刻度托片(4)，其特征在于：所述平体(1)的上端安装有玻璃框(2)，且玻璃框(2)的顶端安置有顶座(3)，所述刻度托片(4)安装于顶座(3)的侧端，所述平体(1)的左右两端均安置有滑轨(5)，且滑轨(5)的外侧安置有滑纳机构(6)，所述平体(1)的底部左右两端均安置有螺条(12)，且螺条(12)的外侧安装有支盘(13)，所述支盘(13)的端壁开设有支孔(14)，且支盘(13)的底端壁安置有支垫(15)。

2.根据权利要求1所述的一种电镀加工产品用分析天平，其特征在于：所述滑纳机构(6)包括纳盘(7)、盘腔(8)、网口(9)、滑座(10)和垫条(11)，所述纳盘(7)的内部开设有盘腔(8)，且纳盘(7)的内侧端壁开设有网口(9)，所述纳盘(7)的内侧端安置有滑座(10)，且滑座(10)的中部安装有垫条(11)。

3.根据权利要求2所述的一种电镀加工产品用分析天平，其特征在于：所述盘腔(8)关于纳盘(7)的中心对称分布，且盘腔(8)、网口(9)之间相互连通。

4.根据权利要求2所述的一种电镀加工产品用分析天平，其特征在于：所述盘腔(8)、网口(9)均关于纳盘(7)的中心对称分布，同时滑座(10)通过轴与垫条(11)构成旋转结构。

5.根据权利要求1所述的一种电镀加工产品用分析天平，其特征在于：所述玻璃框(2)、顶座(3)之间相固定连接，且顶座(3)、刻度托片(4)之间相互固定连接，而且顶座(3)、刻度托片(4)构成“L”字形状。

6.根据权利要求1所述的一种电镀加工产品用分析天平，其特征在于：所述螺条(12)通过支孔(14)与支盘(13)相螺纹连接，且螺条(12)、支盘(13)均关于平体(1)的中心对称分布，而且支垫(15)关于支盘(13)的中心呈环形分布。