[实用新型]高光效LED外延片以及LED芯片有效

专利信息
申请号: 202220851402.2 申请日: 2022-04-13
公开(公告)号: CN217522030U 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 曹斌斌;胡加辉;金从龙 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/22;H01L33/44;H01L33/02
代理公司: 南昌旭瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 36150 代理人: 彭琰
地址: 330000 江西省南昌市南*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 高光效 led 外延 以及 芯片
【权利要求书】:

1.一种高光效LED外延片,其特征在于,所述LED外延片由下至上依次包括衬底基板、保护层、扩展层、过渡层、第一半导体层、有源发光层以及第二半导体层,其中;

所述过渡层、所述第一半导体层、所述有源发光层以及所述第二半导体层的相同一侧形成一粗糙斜面,所述过渡层包括第一过渡子层以及第二过渡子层,所述第一过渡子层层叠于所述保护层上,所述第二过渡子层层叠于所述第一过渡子层上。

2.根据权利要求1所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述第一过渡子层为ALGaN层和BGaN层重复交叠组成的周期性复合结构,周期数为3~10。

3.根据权利要求2所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述第二过渡子层为生长停顿层。

4.根据权利要求1所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述扩展层为GaN半导体层,所述GaN半导体层的厚度为1000-5000nm。

5.根据权利要求1所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述第一半导体层的厚度为1000-2500nm。

6.根据权利要求1所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述有源发光层为多量子阱层,所述多量子阱层包括InGaN量子阱层和GaN量子垒层,所述多量子阱层的周期为3~20。

7.根据权利要求6所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述InGaN量子阱层的厚度为3-7nm,所述GaN量子垒层的厚度为5-11nm。

8.根据权利要求1所述的高光效LED外延片,其特征在于,所述衬底基板至少由Al2O3、Si或SiC中的一种材料制成。

9.一种LED芯片,其特征在于,所述LED芯片包括权利要求1-8任一项所述的高光效LED外延片。

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