[实用新型]一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置

权利要求书

1.一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，包括清洁器(1)，其特征在于：所述清洁器(1)的表面开设有清洗槽(2)，所述清洁器(1)的侧壁连通有进液管(4)，所述清洁器(1)靠近进液管(4)的一侧连通有氮气管(5)，所述清洁器(1)内安装有液位传感器(3)，所述清洁器(1)的下表面连通有排废管(6)，所述清洁器(1)上清洗槽(2)的内壁设有过滤结构(7)，所述过滤结构(7)包括滤网(71)，所述滤网(71)与清洁器(1)上清洗槽(2)的内壁滑动连接，所述滤网(71)的上表面固定连接有两个连接杆(72)，所述连接杆(72)远离滤网(71)的一端固定连接有拉板(73)，所述清洁器(1)相对于两个拉板(73)的位置均固定连接有固定杆(74)，所述固定杆(74)的表面滑动套有滑板(75)，所述滑板(75)的上表面固定连接有套管(76)，所述套管(76)的尺寸与拉板(73)的尺寸相适配。

2.根据权利要求1所述的一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，其特征在于：所述固定杆(74)的表面套有弹簧(77)，所述弹簧(77)的两端分别与滑板(75)和固定杆(74)固定连接，所述滑板(75)位于弹簧(77)和清洁器(1)之间。

3.根据权利要求1所述的一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，其特征在于：所述滑板(75)远离清洁器(1)的一侧固定连接有圆柱块，圆柱块远离滑板(75)的一端转动连接有转板(78)。

4.根据权利要求1所述的一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，其特征在于：所述滤网(71)靠近连接杆(72)的一侧固定连接有挡环(79)，所述挡环(79)的横截面呈椭圆形。

5.根据权利要求1所述的一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，其特征在于：所述清洁器(1)的下表面设有限位结构(8)，所述限位结构(8)包括四个固定管(81)，所述固定管(81)固定连接在清洁器(1)的下表面，所述固定管(81)的内壁滑动连接有支撑杆(82)，所述支撑杆(82)远离清洁器(1)的一端固定连接有吸盘(83)。

6.根据权利要求5所述的一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，其特征在于：四个所述支撑杆(82)两两一组，两个所述支撑杆(82)的圆弧面均固定连接有矩形板(84)，两个所述矩形板(84)彼此远离的一侧均固定连接有限位板(85)，所述限位板(85)的竖直截面呈“L”形，所述限位板(85)长臂的表面螺纹插设有螺杆(86)，所述清洁器(1)相对于螺杆(86)的位置固定连接有定位板(87)。

7.根据权利要求6所述的一种基于半导体涂胶机的喷头清洁装置，其特征在于：所述螺杆(86)靠近定位板(87)的一端固定连接有辅助板(88)，所述辅助板(88)的竖直截面呈圆形。