[实用新型]一种真空镀膜修正结构

说明书

本实用新型涉及镀膜技术领域，更具体地，涉及一种真空镀膜修正结构，包括修正板，一端连接修正板且用于调节修正板放置角度的旋转组件，连接旋转组件另一端且用于调节修正板放置高度的调节套杆。本实用新型克服现有的镀膜修正板遮挡角度、遮挡阴影面调整不够灵活的问题，本实用新型适用于不同蒸发速率的靶材，无需根据不同靶材频繁更换修正板，修正板组件遮挡角度灵活可调，满足更多镀膜场景。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，更具体地，涉及一种真空镀膜修正结构。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法。

真空镀设备一般包括镀膜源(靶材)及与镀膜源位置相对的工件架。当靶材到工件架各点距离不同，镀膜时靶材到工件架各点的沉积速率存在很大差异，导致出现薄膜厚度中间厚边缘薄现象。薄膜厚度均匀性主要是通过工件架的公自转和使用修正板来改善，而修正板在镀膜过程中通过调整遮挡角度及其遮挡阴影面来改变该方向上靶材粒子浓度。现有的镀膜修正板一般包括支撑板和可拆卸安装在支撑板上的修正板，通过调整支撑板的安装位置来实现修正板的遮挡效果，从而能够改善基片镀膜均匀性，实现大尺寸高均匀区沉积，适用于多种靶材、多种设备沉膜均匀性的修正，可低成本解决基片所沉积膜层中心厚边缘薄的膜层不均匀问题。但是目前现有的镀膜修正板遮挡角度、遮挡阴影面调整不够灵活，结构复杂，在实际应用过程中的灵活度差，不能很好的满足不同的工件镀膜，严重影响生产效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有的镀膜修正板遮挡角度、遮挡阴影面调整不够灵活，结构复杂，在实际应用过程中的灵活度差，不能很好的满足不同的工件镀膜的不足，提供一种真空镀膜修正结构。本实用新型适用于不同蒸发速率的靶材，无需根据不同靶材频繁更换修正板，修正板组件遮挡角度灵活可调，满足更多镀膜场景。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种真空镀膜修正结构，包括修正板，一端连接修正板且用于调节修正板放置角度的旋转组件，连接旋转组件另一端且用于调节修正板放置高度的调节套杆。这样，通过旋转组件能够调节修正板相对于靶材的遮挡角度及其遮挡阴影面，从而改变该方向上靶材粒子浓度，同时通过调节套杆能够调节修正板相对于靶材的线性距离，以达到不同的遮挡效果从而调整粒子散落面积和沉积速率，本方案可根据需要调整不同的角度和高度更易获得均匀的薄膜效果，以适应不同的镀膜场景，提高其使用的灵活性。

进一步的，修正板包括相互重叠且一端铰接的第一修正板和第二修正板。这样，由于第一修正板和第二修正板的一端被铰接在一起，第一修正板和第二修正板的另一端能够相对转动，在实际使用时，根据不同的镀膜需求调整修正板遮挡面大小，结构简单且易于拆装维护。

进一步的，修正板为纺锤形、圆形或椭圆形中的一种。

进一步的，旋转组件包括连接架，一端穿设于连接架上且另一端固定连接修正板的螺纹杆，连接架开设有与螺纹杆的外螺纹相配合的螺纹孔。这样，在需要调节修正板的旋转角度时，通过旋转螺纹杆，使螺纹杆在螺纹孔中转动，由于螺纹杆的外螺纹与螺纹孔的啮合，实现角度旋转和固定，结构简单有效。

进一步的，螺纹杆的一端上还设有用于限制螺纹杆脱出连接架的螺母。这样，螺母一方面能够起到一定的固定作用，另一方面也防止螺纹杆脱出连接架。

作为一种优选方案，调节套杆包括一端与连接架连接的水平杆，活动连接水平杆另一端的竖直杆，以及连接竖直杆且用于锁定水平杆相对于竖直杆的不同位置的第一固定螺栓。