[实用新型]一种半导体清洗剂用精馏装置

说明书

本实用新型公开了一种半导体清洗剂用精馏装置，涉及半导体清洗剂精馏技术领域，包括精馏釜，所述精馏釜侧面固定安装有进液管，所述精馏釜顶部中心位置固定焊接有圆柱筒，所述圆柱筒两端采用螺栓固定连接有密封盖，设置于圆柱筒顶部的密封盖中心位置采用轴承与驱动电机输出端转动连接，所述驱动电机底部通过进水架固定连接有第一弯管。本实用新型在圆柱筒设置有进水腔，进水腔一侧设置有进水管，可通过进水管向完全贴合精馏管内壁形状的第一弯管、第二弯管持续供水，驱动电机通过进水架带动第一弯管、第二弯管沿精馏釜内壁转动，清洗水可对精馏釜高压进行冲洗，可不在浪费大量水资源的情况下，完成对精馏釜的清洗工作。

技术领域

本实用新型涉及半导体清洗剂精馏技术领域，尤其涉及一种半导体清洗剂用精馏装置。

背景技术

半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等，而精馏是利用混合物中各组分挥发度不同而将各组分加以分离的一种分离过程，常用的设备有板式精馏塔和填料精馏塔。

半导体清洗剂在精馏釜中精馏时，精馏釜侧壁顶部由于温度较低，半导体清洗剂气相会在侧壁冷凝附着，因此精馏釜在更换精馏原液之前，需要对精馏釜侧壁进行清洗，然后现有技术中对精馏釜侧壁进行清洗的方式是将精馏釜灌满清洗水，利用大量的清洗水覆盖满精馏釜内壁，但是此种清洗水会浪费大量的水资源，增加清洗成本。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中对精馏釜侧壁进行清洗的方式是将精馏釜灌满清洗水，利用大量的清洗水覆盖满精馏釜内壁，但是此种清洗水会浪费大量的水资源，增加清洗成本的问题，而提出的一种半导体清洗剂用精馏装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种半导体清洗剂用精馏装置，包括精馏釜，所述精馏釜侧面固定安装有进液管，所述精馏釜顶部中心位置固定焊接有圆柱筒，所述圆柱筒两端采用螺栓固定连接有密封盖，设置于圆柱筒顶部的密封盖中心位置采用轴承与驱动电机输出端转动连接，所述驱动电机底部通过进水架固定连接有第一弯管，所述第一弯管底部固定连接有第二弯管，所述第二弯管形状为半圆弧形，所述第一弯管与第二弯管沿轴线等距分布有出水孔，所述圆柱筒顶部设置有吸气腔，所述圆柱筒靠吸气腔侧面开设有出气管。

可选地，所述精馏釜底部固定联通有连接管，所述连接管底部螺纹旋入端盖，所述端盖顶部固定安装有加热棒。

可选地，设置于所述圆柱筒顶部的密封盖上表面对称焊接有螺纹筒，所述螺纹筒内部开设有螺纹孔，所述驱动电机壳体通过安装螺栓与螺纹筒固定连接。

可选地，所述圆柱筒靠进水架位置开设有进水腔，所述进水腔侧面固定联通有进水管，所述进水架包括连接环、支柱，所述连接环共设置有两组，两组所述连接环之间通过支柱连接。

可选地，所述驱动电机输出端伸入吸气腔内，且所述驱动电机输出端固定连接有吸气扇叶。

可选地，所述吸气腔底部对称固定联通有吸气管，所述吸气管底部固定联通有喇叭口，所述喇叭口开口延伸至圆柱筒外壁。

与现有技术相比，本实用新型具备以下优点：

本实用新型在圆柱筒设置有进水腔，进水腔一侧设置有进水管，可通过进水管向完全贴合精馏管内壁形状的第一弯管、第二弯管持续供水，驱动电机通过进水架带动第一弯管、第二弯管沿精馏釜内壁转动，清洗水可对精馏釜高压进行冲洗，可不在浪费大量水资源的情况下，完成对精馏釜的清洗工作。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为图1中A处的局部放大结构示意图；

图3为进水架的三维结构示意图。