[发明专利]高耐受功率透明导电薄膜的制备方法及透明导电薄膜

说明书

本发明实施例公开一种高耐受功率透明导电薄膜的制备方法及透明导电薄膜。该方法包括提供基片；在基片的一侧放置镀膜夹具的第一子基板；其中镀膜夹具包括第一子基板和第二子基板，第一子基板上设置有第一蒸镀孔，第二子基板上设置有第二蒸镀孔；第一蒸镀孔在基片的正投影与第二蒸镀孔在基片的正投影至少部分错开；在基片邻近第一子基板的一侧，形成第一介电薄膜；移除第一子基板；在基片邻近第一介电薄膜的一侧，放置镀膜夹具的第二子基板；在基片邻近第二子基板的一侧形成第二介电薄膜。本实施例提供的技术方案制备的高耐受功率透明导电薄膜的电场强度分布调谐，得到周期性结构的透明导电薄膜，提高了高耐受功率透明导电薄膜的抗激光损伤性能。

技术领域

本发明实施例涉及薄膜光电技术领域，尤其涉及一种高耐受功率透明导电薄膜的制备方法及透明导电薄膜。

背景技术

透明导电材料由于具有良好的导电性，且在可见-近红外光波段有高透过率，长期以来被广泛应用于太阳能电池、平板显示器、有机发光二极管、低辐射玻璃、透明薄膜晶体管及柔性电子器件等领域。现有的透明导电薄膜的制备方法制得的透明导电薄膜由于材料本征吸收导致的热效应和损伤，影响各种光学器件有效地应用在高功率激光系统中。

发明内容

本发明实施例提供一种高耐受功率透明导电薄膜的制备方法及透明导电薄膜，以解决高耐受功率透明导电薄膜由于材料本征吸收导致的热效应和损伤，影响各种光学器件有效地应用在高功率激光系统中的问题。

为实现上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

根据本发明的一方面，本发明实施例提供了一种高耐受功率透明导电薄膜的制备方法，包括：

提供基片；

在所述基片的一侧放置镀膜夹具的第一子基板；其中，镀膜夹具包括第一子基板和第二子基板，第一子基板上设置有第一蒸镀孔，第二子基板上设置有第二蒸镀孔；第一蒸镀孔在基片的正投影与第二蒸镀孔在基片的正投影至少部分错开；

在所述基片邻近所述第一子基板的一侧，形成第一介电薄膜；

移除所述第一子基板；

在所述基片邻近所述第一介电薄膜的一侧，放置镀膜夹具的第二子基板；

在所述基片邻近所述第二子基板的一侧形成第二介电薄膜。

可选的，所述在所述基片邻近所述第一子基板的一侧，形成第一介电薄膜，包括：

在真空环境下，采用物理气相沉积技术，在所述基片的邻近所述第一子基板的一侧制备第一预设厚度的周期性分布的第一介电薄膜；

所述在所述基片邻近所述第二子基板的一侧形成第二介电薄膜，包括：

在真空环境下，采用物理气相沉积技术，在所述基片的邻近所述第二子基板的一侧制备第二预设厚度的周期性分布的第二介电薄膜；其中，所述第一蒸镀孔在所述基片的正投影与所述第二蒸镀孔在所述基片的正投影相邻且不交叠；所述第一蒸镀孔和所述第二蒸镀孔阴阳互补。

可选的，在所述基片的一侧放置第一子基板之前，还包括：

对所述基片进行超声清洗和干燥处理。

可选的，对所述基片进行超声清洗和干燥处理，包括：

所述超声清洗包括依次经丙酮、酒精和去离子水的超声清洗。

可选的，所述的丙酮、酒精和去离子水超声清洗，每次清洗时间为15min。

根据本发明的又一方面，本发明实施例提供一种高耐受功率透明导电薄膜，包括：由如第一方面中任意项提出的高耐受功率高耐受功率透明导电薄膜的制备方法制作形成的第一介电薄膜和第二介电薄膜；