[发明专利]一种多层式湿化学处理设备在审

专利信息
申请号: 202211596301.6 申请日: 2022-12-12
公开(公告)号: CN116371803A 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 付金海;高志峰;吴晋;黄允文;刘二壮 申请(专利权)人: 上海普达特半导体设备有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;F26B21/00
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 杨胜军
地址: 201210 上海市浦东新区中国(上海)*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 多层 化学 处理 设备
【说明书】:

本公开内容公开了一种多层式湿化学处理设备,所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元,其中,所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上,并且其中,所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。由于依据本公开内容的多层式湿化学处理设备所包括的位于下层的清洗单元的顶部盖板被构造为平面,所以多个清洗单元能够以上下叠置的方式进行布置,这一方面提高了清洗效率另一方面也减小了湿化学处理设备的占用面积,降低场地成本。

技术领域

本公开内容涉及半导体制造领域,并且更具体而言涉及一种多层式湿化学处理设备。

背景技术

传统的电池片湿化学处理设备通常由单层链式清洗机形成。如图1所示,图中示出的是一种典型的单层链式清洗机。从图1之中可以看出,链式清洗机1为单层结构,电池片从进口2进入清洗机1。供液槽体3和管路4分别容纳于相应的空间之中。此外,清洗机1还布置有气控箱和电气控制柜(图中未示出)。

从图1之中可以看出,由于清洗机1的上部壳体为弧形,故不能制造多层的层叠结构,也就是说目前的清洗机1均是单层布置,这将限制产能。如果需要增加产能,必然需要更大的场地,而这样必然会带来运营成本尤其是场地租赁成本的显著提升,并且占地空间大。

由此可见,现有技术中的清洗机并不能满足现如今大规模生产的需要。

发明内容

本发明的目的旨在解决现有技术中存在的上述问题和缺陷中的至少一方面,即至少能够提高清洗效率或者降低运营成本。

针对上述问题,本公开内容提出了一种多层式湿化学处理设备,所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元,其中,所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上,并且其中,所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。

由于依据本公开内容的多层式湿化学处理设备所包括的位于下层的清洗单元的顶部盖板被构造为平面,所以多个清洗单元能够以上下叠置的方式进行布置,这一方面提高了清洗效率另一方面也减小了湿化学处理设备的占用面积,降低场地成本。

在根据本公开内容的一个示例性的实施例之中,所述第一清洗单元和所述第二清洗单元包括共用的液体通道。以这样的方式将液体通道共用,这一方面可以节约成本,另一方面也提高了用于清洗的液体的利用效率。

在根据本公开内容的一个示例性的实施例之中,所述液体通道包括进液通道和排液通道。以这样的方式能够高效安全地管理用于清洗被清洗部件(例如电池片等半导体晶圆)的液体回路,提高液体利用效率并相应地提高清洗效果。

在根据本公开内容的一个示例性的实施例之中,所述第一清洗单元和所述第二清洗单元分别包括独立的排气通道。在依据本公开的技术方案之中,由于排气通道是相互独立的,从而能够保证相互叠置的两层或者多层的清洗单元的排气顺畅,不会对清洗效率产生任何不良影响。

在根据本公开内容的一个示例性的实施例之中,所述多层式湿化学处理设备还包括第三清洗单元,其中,所述第二清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第三清洗单元之上,并且其中,所述第三清洗单元的顶部盖板被构造为平面。以这样的方式,由于依据本公开内容的多层式湿化学处理设备所包括的位于下层的第二清洗单元和第三清洗单元的顶部盖板被构造为平面,所以多个清洗单元能够以上下叠置的方式进行布置,这一方面提高了清洗效率另一方面也减小了湿化学处理设备的占用面积,降低场地成本。

在根据本公开内容的一个示例性的实施例之中,所述第一清洗单元、所述第二清洗单元以及所述第三清洗单元包括共用的液体通道。以这样的方式将液体通道共用,这一方面可以节约成本,另一方面也提高了用于清洗的液体的利用效率。

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