[发明专利]一种多层式湿化学处理设备在审
| 申请号： | 202211596301.6 | 申请日： | 2022-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN116371803A | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 付金海;高志峰;吴晋;黄允文;刘二壮 | 申请（专利权）人： | 上海普达特半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人： | 杨胜军 |
| 地址： | 201210 上海市浦东新区中国（上海）*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 多层 化学 处理 设备 | ||
1.一种多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元，其中，所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上，并且其中，所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。
2.根据权利要求1所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第一清洗单元和所述第二清洗单元包括共用的液体通道。
3.根据权利要求2所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述液体通道包括进液通道和排液通道。
4.根据权利要求1所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第一清洗单元和所述第二清洗单元分别包括独立的排气通道。
5.根据权利要求1所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述多层式湿化学处理设备还包括第三清洗单元，其中，所述第二清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第三清洗单元之上，并且其中，所述第三清洗单元的顶部盖板被构造为平面。
6.根据权利要求5所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第一清洗单元、所述第二清洗单元以及所述第三清洗单元包括共用的液体通道。
7.根据权利要求5所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第一清洗单元、所述第二清洗单元以及所述第三清洗单元分别包括独立的排气通道。
8.根据权利要求5所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第二清洗单元的排气通道和所述第三清洗单元的排气通道位于所述第一清洗单元的排气通道的同一侧。
9.根据权利要求5所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第二清洗单元的排气通道和所述第三清洗单元的排气通道分别位于所述第一清洗单元的排气通道的不同侧。
10.根据权利要求1所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第一清洗单元和所述第二清洗单元分别包括接液盘。
11.根据权利要求10所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述接液盘的底部布置有漏液传感器。
12.根据权利要求1所述的多层式湿化学处理设备，其特征在于，所述第一清洗单元和所述第二清洗单元分别包括传动机构。
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