[发明专利]基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法在审

专利信息
申请号: 202211584602.7 申请日: 2022-12-09
公开(公告)号: CN115935655A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 黄志勇;冯明;高鹏程;谢志杰;谢兵 申请(专利权)人: 上海无线电设备研究所
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 曹媛;张双红
地址: 201109 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 时域 高频 近场 动态 回波 快速 仿真 方法
【权利要求书】:

1.一种基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法,其特征在于,包含以下步骤:

S1、预先推导天线波束照射下的时域物理光学法闭合表达式;

S2、设置目标网格模型、近场回波天线方向图、脉冲多普勒体制参数以及弹道参数;

S3、采用时域高频法仿真近场回波,得到零中频信号;

S4、对所述零中频信号取包络,得到多普勒回波。

2.如权利要求1所述的基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法,其特征在于,所述S1中,推导天线波束照射下的时域物理光学法闭合表达式的过程如下:

S11、给出计算目标散射近场的时域电磁场面积分方程,如下式所示:

上式中E、H为电场和磁场,r、t为空间任一位置和时间,s为包裹源的表面,r`、t`为以s为面表的空间中任一位置矢量和时间,为包裹源表面s的外法向单位矢量,R为场点与源点的距离,为场点到源点的单位矢量,为单位并矢,ds`为r`处的积分面元,c为光速,ε、μ为介电常数和磁导率;

S12、给出天线时域远区辐射场表达式:

上式中为天线的矢量电流矩,δ为冲击函数,K(t)为任意的宽带脉冲信号,η为波阻抗,R为辐射场点到天线位置的距离,此处的天线位置即为公式(1)(2)中的源点,辐射场点即为公式(1)(2)中的场点;

S13、将(3)式代入(1)、(2)式,即可得到天线照射下目标的时域物理光学积分公式;

S14、若面元S足够小,满足远场条件,则对于(3)式中的R可简化为:

上式中r`为辐射场点位置矢量,rs为天线位置矢量;

将(3)、(4)式代入(1)、(2)式,即可将时域物理光学面积分转化为闭合表达式,如下所示:

上式中Es、Hs为电场和磁场,r、t为空间任一位置和时间,r`为目标任一点的位置矢量,为由面元s的局部坐标系原点指向观察点单位矢量,为单位并矢,s为包裹源的表面,ds`为r`处的积分面元,rs为原点到面元ds`的位置矢量,为由天线位置指向面元ds`的局部坐标系原点的单位矢量,ρn为的模值,c为光速,η为波阻抗,δ、δ`为冲击函数,K(t)为激励源即时域脉冲,Jn为天线的矢量电流矩,Jn(n)为Jn的n阶导。

3.如权利要求1所述的基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法,其特征在于,所述的S2中,所述目标网格模型为由商用软件FEKO或CST生成的标准格式,后缀为nas、stl或msh;所述近场回波天线为由商用软件FEKO生成的后缀为ffe的标准格式。

4.如权利要求1所述的基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法,其特征在于,所述的S2中,所述脉冲多普勒体制参数包含:中心频率、脉冲重复周期、脉冲宽度、接收波门宽度、接收延时;所述弹道参数包含:脱靶量、脱靶方位、交会距离起始值、交会距离终止值、弹目运动相对速度、目标姿态、导弹姿态。

5.如权利要求4所述的基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法,其特征在于,所述的S3具体包含以下步骤:

S31、依据脉冲重复周期、脉冲宽度、交会距离以及弹目运动相对速度计算出该条弹道上的弹道采样点;依据脱靶量、脱靶方位以及弹道采样点的位置计算导弹的位置,结合目标位置计算得到入射方向,再根据天线方向图得到亮区的面元;选择正弦信号为载波信号,周期脉冲函数与载波调制后变换为射频脉冲信号,将射频脉冲信号作为激励源;

S32、进行脉冲多普勒引信体制回波求解,具体为:将射频脉冲信号经过天线发射出去,电磁波遇到目标后发生散射,部分能量回到接收天线,对于每个弹道采样点都采用时域高频法仿真得到近场回波;

S33、将接收到的回波与载频混频,再经过滤波器滤除高频成分,即可得到含有多普勒信息的零中频信号。

6.如权利要求1所述的基于时域高频法的近场动态回波快速仿真方法,其特征在于,所述的S4中,根据步骤S3获取的零中频信号,对零中频信号FFT进行二次滤波得到矩形脉冲中的直流分量,并保留多普勒信息,此过程即为包络检波得到多普勒回波。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海无线电设备研究所,未经上海无线电设备研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211584602.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top