[发明专利]处理基板的设备和方法

说明书

提供了一种用于处理基板的设备，所述设备包括：转位模块；和邻近所述转位模块设置并处理基板的处理模块，其中所述处理模块包括：一个或多个处理室；传送室，所述传送室设置有用于将基板传送到所述处理室的主传送机器人；以及清洁单元，所述清洁单元用于清洁所述主传送机器人的手。

技术领域

本发明涉及一种处理基板的设备和方法，更具体地，涉及一种包括在用于处理基板的设备内传送基板的机器人的处理基板的设备和方法。

背景技术

通常，在制造平板显示装置或半导体的过程中的处理玻璃基板或晶片的过程中，执行各种工艺，诸如光刻胶涂层工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺。

在每个工艺中，为了去除附着在基板上的各种污染物，执行使用化学溶液或去离子水的湿法清洗工艺和用于干燥残留在基板表面上的化学溶液或去离子水的干燥工艺。一般的基板处理设备具有用于将基板从处理室卸载或将基板装载到处理室中的传送机器人。由于传送机器人在工艺进行之前和之后直接传送基板，因此需要保持高清洁度。然而，在处理室中清洗诸如掩模或晶片的基板的过程中，与基板的上表面相比，基板的下表面不进行清洗和干燥。在这种情况下，当传送机器人传送基板时，残留在基板下表面上的液体成分会污染传送机器人的手。另外，在一些情况下，清洗后残留在基板上表面的液体成分可能沿着基板的边缘表面向下行进，并污染传送机器人的手。

在这种情况下，当后续基板被传送机器人传送时，后续基板被残留在手中的污染物污染。

发明内容

本发明致力于提供一种基板处理设备和机器人清洁方法，其能够防止后续基板由于传送机器人的已污染的手而被污染。

本发明致力于提供一种基板处理设备和机器人清洁方法，其能够保持传送机器人的手的高度清洁。

本发明的目的不限于此，并且本领域的普通技术人员将从以下描述中清楚地理解未提及的其他目的。

本发明的示例性实施例提供了一种用于处理基板的设备，该设备包括：转位模块；和邻近转位模块设置并处理基板的处理模块，其中处理模块包括：一个或多个处理室；传送室，该传送室设置有用于将基板传送到处理室的主传送机器人；以及清洁单元，该清洁单元用于清洁主传送机器人的手。

清洁单元可以包括：壳体；和清洁构件，该清洁构件设置在壳体中并且清洁主传送机器人的装载到壳体中的手。

在示例性实施例中，清洁构件包括吹扫喷嘴，该吹扫喷嘴用于将吹扫气体排放到主传送机器人的装载到壳体中的手的上表面。

清洁单元还可以包括设置于壳体中吹扫喷嘴下方的液体接收板。

清洁单元还可以包括用于使壳体内部排气的排气构件，并且当从顶部看时，排气构件可以在低于液体接收板的位置处联接到壳体，从而与液体接收板重叠。

吹扫喷嘴可以具有用于在向下方向上排放吹扫气体的多个排放端口，并且主传送机器人的手可以包括：底板；以及引导件，在该引导件上放置基板，并且该引导件设置成在向上方向上从底板突出，并且当主传送机器人的手通过前后移动装载到壳体中和从壳体卸载时，当从顶部看时，吹扫喷嘴的纵向方向可以设置在与手的前后移动方向垂直的方向上。

该底板可以包括：主体；以及从主体延伸的一对指状物，该引导件可以包括：安装在该对指状物中的每一个的前端处的第一引导件；以及安装在该对指状物的每一个的后端处的第二引导件；并且排放端口可以包括多个第一孔，在主传送机器人的手装载到壳体中的状态下，当从上方看时，该多个第一孔设置在与指状物相对的第一区域中。

排放端口还可以包括多个第二孔，在主传送机器人的手装载到壳体中的状态下，当从上方看时，该多个第二孔设置在与指状物之间的空间相对的第二区域中，并且第一区域中的第一孔形成的密度可以高于第二区域中的第二孔。