[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202211349930.9 申请日: 2022-10-31
公开(公告)号: CN115696963A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 王英涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H10K50/856 分类号: H10K50/856;H10K50/81;H10K71/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

衬底基板;

发光器件层,设于所述衬底基板的一侧,所述发光器件层包括,

第一电极层,设于所述衬底基板的一侧,包括多个间隔分布的第一电极;

介质层,设于所述衬底基板的一侧,所述介质层包括多个间隔分布的介质单元,所述介质单元至少部分位于相邻两个所述第一电极之间;

反射层,设于所述介质层远离所述衬底基板的一侧,所述反射层包括多个间隔分布的反射单元,相邻两个所述第一电极在所述衬底基板上的正投影之间的空隙在所述反射单元在所述衬底基板上的正投影之内,所述反射层和所述第一电极层绝缘;

材料组合层,设于第一电极层远离衬底基板的一侧;

第二电极层,设于所述材料组合层远离所述衬底基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一电极层和所述反射层同层设置,且所述第一电极层在所述衬底基板上的正投影和所述反射层在所述衬底基板上的正投影不重叠。

3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述介质层的厚度大于所述第一电极层的厚度。

4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述介质层单元具有靠近所述衬底基板的底端和远离衬底基板的顶端,所述介质单元的底端在所述衬底基板上的正投影位于所述介质单元的顶端在所述衬底基板上的正投影之内。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述材料组合层包括至少一层发光层;

所述至少一层发光层具有靠近所述衬底基板的第一表面和远离所述衬底基板的第二表面,所述反射层具有靠近所述衬底基板的第一表面和远离所述衬底基板的第二表面;

所述反射层的第二表面与所述衬底基板之间的距离大于所述至少一层发光层与所述第一电极在垂直于衬底基板方向上对应区域的第二表面与衬底基板之间的距离。

6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述材料组合层还包括电荷生成层,

所述电荷生成层包括多个间隔分布的电荷生成单元,在垂直于所述衬底基板方向上,所述电荷生成单元与所述第一电极一一对应。

7.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述介质单元的底端在所述衬底基板上的正投影的边缘与所述介质单元的顶端在所述衬底基板上的正投影的边缘之间的间隙宽度为0.5-2μm。

8.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供衬底基板;

于所述衬底基板的一侧形成介质层,所述介质层包括多个间隔分布的介质单元;

于所述衬底基板的一侧和所述介质层远离所述衬底基板的一侧形成导电材料层,所述介质层的厚度大于所述导电材料层的厚度,以使所述导电材料层断裂形成多个依次交错排布的第一电极和反射单元,所述反射单元位于所述介质单元远离所述衬底基板的一侧;

于所述反射单元远离衬底基板的一侧和所述第一电极远离衬底基板的一侧形成材料组合层;

于所述材料组合层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极层。

9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:

提供衬底基板;

于所述衬底基板的一侧形成第一电极层,所述第一电极层包括多个间隔分布的第一电极;

于相邻两个所述第一电极之间形成介质单元,所述介质单元至少部分位于相邻两个所述第一电极之间;

于所述介质单元远离所述衬底基板的一侧形成反射单元,相邻两个所述第一电极在所述衬底基板上的正投影之间的空隙在所述反射单元在所述衬底基板上的正投影之内;

于所述反射单元远离衬底基板的一侧和所述第一电极远离衬底基板的一侧形成材料组合层;

于所述材料组合层远离所述衬底基板的一侧形成第二电极层。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-7任一项所述的显示面板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211349930.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top