[发明专利]负性光敏树脂及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种负性光敏树脂，其特征在于，所述负性光敏树脂如式(1)所示：

其中，-OR₁每次出现，分别独立地选自第一基团和第二基团，所述第一基团为含羟基的丙烯酸酯类单体的酯化残基，所述第二基团包括含羟基的多元醇醚类单体的酯化残基和含羟基的多元醇酯类单体的酯化残基中的至少一种；且至少部分-OR₁选自所述第二基团；

每次出现，分别独立地选自环原子数为6～60的芳香族四酸单体残基，每次出现，分别独立地选自环原子数为6～60的芳香族二胺单体残基；

X₁每次出现，分别独立地选自H或碳原子数为1～10的烷基，b选自1～4任一整数，Y选自单键、O或碳原子数为1～10的烷烃亚基；

m满足：0＜m≤1，n表示聚合度，*表示连接位点；

所述负性光敏树脂中，所述第一基团与第二基团的摩尔数比为1:(0.01～0.4)；

所述含羟基的多元醇酯类单体包括如下结构中的至少一种：

其中，m为1～4任一整数；

所述含羟基的多元醇醚类单体包括如下结构中的至少一种：

其中，n₁为1～4任一整数。

2.如权利要求1所述的负性光敏树脂，其特征在于，Ar₁每次出现，分别独立地选自如下任一结构：

其中，R₃每次出现，分别独立地选自碳原子数为1～5的烷烃亚基或O；

*表示连接位点。

3.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，Ar₁每次出现，分别独立地选自如下任一结构：

*表示连接位点。

4.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，所述负性光敏树脂中，所述第一基团与第二基团的摩尔数比为1:0.2。

5.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，所述含羟基的丙烯酸酯类单体包括如下结构的至少一种：

其中，n₂为1～4任一整数。

6.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，Ar₂每次出现，分别独立地选自如下任一结构：

*表示连接位点。

7.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，0.1≤m≤1，n取10～100任意整数。

8.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，X₁每次出现，分别独立地选自H或碳原子数为1～5的链烷基。

9.如权利要求1～2任一项所述的负性光敏树脂，其特征在于，Y选自单键或O。

10.如权利要求1～9任一项所述的负性光敏树脂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将至少部分第一单体和/或第二单体与所述环原子数为6～60的芳香族四酸单体形成的二酸酐化合物进行酯化反应，制备前驱体；

其中，所述第一单体为所述含羟基的丙烯酸酯类单体，所述第二单体包括所述含羟基的多元醇醚类单体和所述含羟基的多元醇酯类单体中的至少一种

将剩余部分所述第一单体和/或所述第二单体、所述前驱体、式(2)所示第三单体及所述环原子数为6～60的芳香族二胺单体进行缩聚，制备所述式(1)所示的负性光敏树脂；

11.一种光刻胶，其特征在于，所述光刻胶的组分包括如权利要求1～9任一项所述的负性光敏树脂。