[发明专利]一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置及方法

说明书

本申请公开了一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置及方法。射频超导腔缓冲化学腐蚀方法应用上述射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，采用酸液水平进出，酸液充填射频超导腔体积的50％，同时射频超导腔是旋转的，射频超导腔不同位置射频面与酸液接触的时间接近，解决了射频射频超导腔不同位置酸流动速度不同的问题，酸液温度均匀性有较大改善，产生的废气可随酸液排出，不会产生气室，避免了射频面的二次缺陷，解决在射频超导腔缓冲化学腐蚀的过程中，不能控制射频超导腔射频面腐蚀均匀去除的问题。

技术领域

本申请涉及射频超导腔领域，尤其涉及一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置及方法。

背景技术

缓冲化学腐蚀是指有效控制速度的化学腐蚀过程，化学腐蚀指金属与非电解质发生化学作用而引起的破坏，反应特点是只有氧化-还原反应。射频超导腔的缓冲化学腐蚀过程，是将金属材料铌制造成的射频超导腔射频表面的和硝酸、氢氟酸产生化学反应，受到污染的铌会被腐蚀剥离，当腐蚀掉180-240um的厚度，加工污染层完全去除。

传统的射频超导腔的缓冲化学腐蚀，采用的是射频超导腔竖直固定放置，采用硝酸(65％)：氢氟酸(40％)：磷酸(78％)＝1：1：2的体积比通过配酸单元由酸运输管道运送到混酸单元，混合成混合酸并进行降温，将混合酸温度控制在12-15摄氏度，混合酸采用磁力泵运送到高位酸槽，开启阀门，混合酸灌入射频超导腔和管道内，然后混合酸用磁力泵通过管道运送到连接射频超导腔的管路中，混合酸采用的是下进上排的方式，废气由排酸口在最高位置排出，因射频超导腔结构设计不同，设计不同的酸进出接口，混合酸对射频超导腔射频表面进行腐蚀，去除射频表面污染层和缺陷。采用传统的射频超导腔的缓冲化学腐蚀过程，射频超导腔内部不同位置酸流动速度不同，不能控制射频超导腔射频面腐蚀被均匀去除；酸的温度较难控制，对超导腔安装要求较高，局部容易产生气室，在射频面易出现废气爬升现象，射频面出现二次缺陷，不能控制射频超导腔射频面腐蚀被均匀去除。

在射频超导腔缓冲化学腐蚀的方法中，需要应用新的装置，解决在射频超导腔缓冲化学腐蚀的过程中，不能控制射频超导腔射频面腐蚀均匀去除的问题。

发明内容

为了解决在射频超导腔缓冲化学腐蚀的过程中，不能控制射频超导腔射频面腐蚀均匀去除的问题，本申请提供了一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，包括多腔腔型固定支架，第一连接法兰、第二连接法兰、第一旋转动密封装置、第二旋转动密封装置、旋转电机、齿轮盘、底座支架、滚齿、出酸口、进酸口，其中，所述多腔腔型固定支架内设有射频超导腔，所述射频超导腔通过所述第一连接法兰与所述第一旋转动密封装置连接，所述第一旋转动密封装置连接出酸口，所述射频超导腔通过第二连接法兰与所述第二旋转动密封装置连接，所述第二旋转动密封装置连接进酸口，所述出酸口和所述进酸口设置在所述射频超导腔的水平轴线位置上；所述多腔腔型固定支架通过滚齿与所述底座支架连接；所述旋转电机连接齿轮盘，所述齿轮盘与所述第二连接法兰连接。

所述多腔腔型固定支架内设置了所述射频超导腔，射频超导腔被水平放置。电机带动齿轮盘转动，齿轮盘与第二连接法兰连接，第二连接法兰跟着齿轮盘转动，与第二连接法兰连接的射频超导腔也跟着转动。齿轮盘的另一侧连接第一旋转动密封装置，所述第一旋转动密封装置保证整个系统在旋转的过程中，也能保持密封的状态，确保装置内的缓冲化学腐蚀可以稳定进行，另一端的第二旋转动密封装置起到同样的作用。

出酸口与进酸口设置在所述射频超导腔的水平中轴线位置上，进酸口和出酸口可互换。

针对射频超导腔不同位置酸流动速度不同的问题，采用酸液水平进出，酸液充填射频超导腔体积的50％，同时射频超导腔是旋转的，射频超导腔不同位置射频面与酸液接触的时间接近，解决了射频射频超导腔不同位置酸流动速度不同的问题，酸液温度均匀性有较大改善，解决在射频超导腔缓冲化学腐蚀的过程中，不能控制射频超导腔射频面腐蚀均匀去除的问题。