[发明专利]一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置及方法

权利要求书

1.一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，包括多腔腔型固定支架(1)，第一连接法兰(2)、第二连接法兰(3)、第一旋转动密封装置(4)、第二旋转动密封装置(5)、旋转电机(6)、齿轮盘(7)、底座支架(8)、滚齿(9)、出酸口(10)、进酸口(11)，其中，所述多腔腔型固定支架(1)内设有射频超导腔(12)，所述射频超导腔(12)通过所述第一连接法兰(2)与所述第一旋转动密封装置(4)连接，所述第一旋转动密封装置(4)连接出酸口(10)，所述射频超导腔(12)通过第二连接法兰(3)与所述第二旋转动密封装置(5)连接，所述第二旋转动密封装置(5)连接进酸口(11)，所述出酸口(10)和所述进酸口(11)设置在所述射频超导腔(12)的水平轴线位置上；所述多腔腔型固定支架(1)通过滚齿(9)与所述底座支架(8)连接；所述旋转电机(6)连接齿轮盘(7)，所述齿轮盘(7)与所述第二连接法兰(3)连接。

2.根据权利要求1所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，还包括轨道(13)，所述轨道(13)设置在所述底座支架(8)与所述滚齿(9)之间，所述轨道(13)上还设置第一可移动支架(14)和第二可移动支架(15)，所述第一可移动支架(14)连接第一旋转动密封装置(4)，所述第二可移动支架(15)连接第二旋转动密封装置(5)。

3.根据权利要求2所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，所述第二旋转动密封装置(5)上设置溢流口(16)，所述溢流口(16)最低点的水平高度等于所述出酸口(10)最高点的水平高度。

4.根据权利要求3所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，还包括超导腔接口，所述超导腔接口一端连接超导腔，另一端与连接法兰连接，与连接法兰连接的一端的接口数量大于一。

5.根据权利要求4所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，还包括储酸槽、配酸槽和混酸槽，所述混酸槽连接所述进酸口(11)，所述配酸槽连接在所述储酸槽与所述混酸槽之间。

6.根据权利要求5所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，所述出酸口(10)与所述混酸槽连接。

7.根据权利要求6所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，所述混酸槽设置排气管，所述排气管连接喷淋吸收塔。

8.根据权利要求7所述的一种射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，其特征在于，还包括气动隔膜泵，所述气动隔膜泵设置在所述混酸槽与所述射频超导腔(12)之间。

9.一种射频超导腔缓冲化学腐蚀方法，应用权利要求1-8中任一项权利要求所述的射频超导腔缓冲化学腐蚀装置，混酸从所述混酸槽进入所述射频超导腔(12)，所述混酸包括硝酸(65％)、氢氟酸(40％)和磷酸(78％)，其中硝酸(65％)：氢氟酸(40％)：磷酸(78％)的体积比为1:1:2。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述混酸的温度为12-15摄氏度。