[发明专利]芳胺类化合物、电致发光器件和显示装置在审
| 申请号: | 202211193841.X | 申请日: | 2022-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN115872987A | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
| 发明(设计)人: | 陈磊;梁丙炎;陈雪芹;张东旭 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C07D413/12 | 分类号: | C07D413/12;C07D405/12;C07D417/12;C09K11/06;H10K85/10;H10K50/85 |
| 代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 陈丹;何妮 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 芳胺类 化合物 电致发光 器件 显示装置 | ||
1.一种芳胺类化合物,其特征在于,所述芳胺类化合物的结构通式为:
其中,X为C(H)R2、O、NR3、S中的任意一种;
Y为O、NR4、S中的任意一种;
R1、R2、R3、R4各自独立地为氢、重氢、卤素、硝基、腈基、取代或未取代的C1至C30的烷基、取代或未取代的C2至C30的烯基、取代或未取代的C1至C30的烷氧基、取代或未取代的C1至C30的硫醚基、取代或未取代的C6至C50的芳基、取代或未取代的C2至C50的杂芳基中的任意一种;这里,取代的C1至C30的烷基、取代的C2至C30的烯基、取代的C1至C30的烷氧基、取代的C1至C30的硫醚基、取代的C6至C50的芳基、取代的C2至C50的杂芳基是指被一个或多个如下基团所取代:重氢、卤素、硝基、腈基、C1至C30的烷基、C2至C30的烯基、C1至C30的烷氧基、C1至C30的硫醚基、C6至C50的芳基和C2至C50的杂芳基;
Ar为取代基R5取代的C6至C60的芳基或取代基R6取代的C6至C60的杂芳基;这里,所述取代基R5、R6各自独立地为未取代的C6至C60的芳基、取代基R7取代的C6至C60的芳基、未取代的C6至C60的杂芳基和取代基R8取代的C6至C60的杂芳基中的任意一个或多个;这里,所述取代基R7、R8各自独立地为C6至C60的芳基中的任意一个或多个;
L1为单键、取代或未取代的C6至C50的亚芳基、取代或未取代的C2至C50的亚杂芳基中的任意一种,这里,取代的C6至C50的亚芳基、取代的C2至C50的亚杂芳基是指被一个或多个如下基团所取代:重氢、卤素、硝基、腈基、C6至C50的芳基、C2至C50的杂芳基。
2.根据权利要求1所述的芳胺类化合物,其特征在于,Ar为下述基团中的任意一种:
3.根据权利要求1所述的芳胺类化合物,其特征在于,X为O、S、-C(H)R2、NR3中的任意一种,R2为氢、苯基中的任意一种,R3为苯基、联苯基中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的芳胺类化合物,其特征在于,Y为O、-NR4、S中的任意一种,R4为苯基。
5.根据权利要求1所述的芳胺类化合物,其特征在于,所述芳胺类化合物为下述化合物中的任意一种:
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6.根据权利要求1至4中任一项所述的芳胺类化合物,其特征在于,
所述芳胺类化合物在460nm波长处的折射率在2.18至2.35范围内;
所述芳胺类化合物在530nm波长处的折射率在1.98至2.1范围内;
所述芳胺类化合物在620nm波长处的折射率在1.91至2.04范围内。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的芳胺类化合物,其特征在于,所述芳胺类化合物在400nm波长处的吸光系数在0.841以上,在450nm波长及大于450nm波长处的吸光系数为零。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的芳胺类化合物,其特征在于,Ar中含有具有共轭平面的片段,并且,所述芳胺类化合物满足:
在450nm至530nm波长处,α>700bohr3;
在620nm波长处,α>600bohr3;
其中,α为所述芳胺类化合物的极化率。
9.根据权利要求1至4中任一项所述的芳胺类化合物,其特征在于,所述芳胺类化合物满足:
5000bohr3<V<6000bohr3;
其中,V为所述芳胺类化合物的分子体积。
10.根据权利要求1至4中任一项所述的芳胺类化合物,其特征在于,所述芳胺类化合物满足:
θ<80°;
其中,θ为Ar中任意两个相邻片段之间的扭转角。
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