[发明专利]一种晶圆贴膜设备及晶圆贴膜方法在审
申请号: | 202211163774.7 | 申请日: | 2022-09-23 |
公开(公告)号: | CN115527895A | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
发明(设计)人: | 谢晓薇;林楚涛;刘湘龙;胡梦海 | 申请(专利权)人: | 广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 林明校 |
地址: | 510663 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶圆贴膜 设备 方法 | ||
本发明公开了一种晶圆贴膜设备及晶圆贴膜方法,晶圆贴膜设备用于向晶圆贴附干膜,晶圆贴膜设备包括:第一板、送料机构和切割工具,第一板开设有凹槽,凹槽用于放置晶圆,送料机构能够将干膜贴附于晶圆,切割工具能够沿晶圆的边缘切割干膜。本发明还公开了一种晶圆贴膜方法,其包括:S1、准备晶圆贴膜设备和预设厚度的干膜;S2、将晶圆放置于凹槽中;S3、将干膜贴附于晶圆上;S4、沿晶圆的边缘切割干膜。通过将晶圆放置于凹槽中,利用送料机构将干膜贴附于晶圆上,随之利用切割工具沿晶圆的边缘将贴附于晶圆上的干膜切割,从而使晶圆的表面贴附上一层干膜,通过选择合适厚度的干膜可以避免在电镀过程中产生夹膜的现象。
技术领域
本发明涉及晶圆加工领域,特别涉及一种晶圆贴膜设备及晶圆贴膜方法。
背景技术
相关技术中,在布置晶圆上的线路时,制作方法一般为在溅镀好的晶圆上涂上一层感光材料,通常采用旋涂技术将感光材料铺于表面,旋涂的光刻胶固化后厚度仅为几微米,而在电镀过程中,感光材料的厚度很难达到电镀铜的厚度,且当电镀铜的厚度大于感光材料的厚度时,容易产生夹膜的现象,从而在蚀刻的时候会造成一些开路。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种晶圆贴膜设备,能够避免在电镀过程中产生夹膜的现象。
本发明还提出一种具有上述晶圆贴膜设备的晶圆贴膜方法。
根据本发明的第一方面实施例的晶圆贴膜设备,所述晶圆贴膜设备用于向所述晶圆贴附干膜,所述晶圆贴膜设备包括:
第一板,所述第一板开设有凹槽,所述凹槽用于放置所述晶圆;
送料机构,所述送料机构能够将所述干膜贴附于所述晶圆;
切割工具,所述切割工具能够沿所述晶圆的边缘切割所述干膜。
根据本发明实施例的晶圆贴膜设备,至少具有如下有益效果:通过晶圆贴膜设置向晶圆表面贴附相应大小的干膜,由于干膜厚度多种多样,能够适应不同电镀铜的铜厚,通过选择合适厚度的干膜可以避免在电镀过程中产生夹膜的现象。
根据本发明的一些实施例,所述晶圆贴膜设备还包括第二板,所述凹槽贯穿所述第一板,所述第二板叠放于所述第一板的下方。
根据本发明的一些实施例,所述晶圆贴膜设备还包括夹持件,所述夹持件夹持所述第一板和所述第二板。
根据本发明的一些实施例,所述凹槽的深度与所述晶圆的厚度相同。
根据本发明的第二方面实施例的晶圆贴膜方法,采用第一方面实施例的晶圆贴膜设备向所述晶圆贴附干膜,所述晶圆贴膜方法包括如下步骤:
S1、准备所述晶圆贴膜设备和预设厚度的所述干膜;
S2、将所述晶圆放置于所述凹槽中;
S3、将所述干膜贴附于所述晶圆上;
S4、沿所述晶圆的边缘切割所述干膜。
根据本发明实施例的晶圆贴膜方法,至少具有如下有益效果:采用向晶圆贴附干膜的方式,通过晶圆贴膜设备向晶圆贴附预设厚度的干膜,以满足电镀铜的铜厚需求,可以避免在电镀过程中产生夹膜的现象。
根据本发明的一些实施例,所述晶圆贴膜方法还包括:
S5、依次对所述干膜进行曝光、显影,在所述干膜上形成预设图案;
S6、向所述预设图案区域电镀。
根据本发明的一些实施例,所述S1包括:
S1.1、裁切所述凹槽以使所述凹槽贯穿所述第一板;
S1.2、准备第二板,将所述第二板叠放于所述第一板下方。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造