[发明专利]图像传感器

说明书

一种图像传感器包括：衬底，其包括第一区和包围第一区的第二区；衬底中的感光元件；感光元件上的平坦化层；包括滤色器的滤色器阵列层，其在衬底的第一区上的平坦化层上；光阻挡金属图案，其在衬底的第二区上的平坦化层上；伪滤色器层，其在第二区的邻近于衬底的第一区的一部分的光阻挡金属图案上；以及滤色器阵列层上的微透镜。有源像素在第一区中，光学黑(OB)像素在第二区中。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2021年9月10日在韩国知识产权局(KIPO)提交的韩国专利申请No.10-2021-0121117的优先权，该韩国专利申请的内容以引用方式全文并入本文中。

技术领域

示例实施例涉及图像传感器及其制造方法。

背景技术

当制造图像传感器时，可以形成滤色器层，可以对滤色器层执行曝光工艺和显影工艺，并且可以执行清洗工艺和干燥工艺。在显影工艺中使用的显影溶液的组分和滤色器层的组分可能混合在清洗工艺中使用的清洗溶液中，它们在干燥工艺后可能残留而产生斑点。斑点可能主要生成在形成有源像素的有源像素区的边缘部分处，这可能导致图像故障。

发明内容

示例实施例提供了具有改进的性能的图像传感器。

示例实施例提供了制造性能提高的图像传感器的方法。

根据示例实施例，提供了一种图像传感器。图像传感器可包括：衬底，其包括第一区和包围第一区的第二区；衬底中的感光元件；感光元件上的平坦化层；包括滤色器的滤色器阵列层，其在衬底的第一区上的平坦化层上；光阻挡金属图案，其在衬底的第二区上的平坦化层上；伪滤色器层，其在第二区的邻近于衬底的第一区的一部分上的光阻挡金属图案上；以及滤色器阵列层上的微透镜。有源像素可在第一区中，光学黑(OB)像素可在第二区中。

根据示例实施例，提供了一种图像传感器。图像传感器可包括：衬底，其包括第一区和包围第一区的第二区；衬底中的感光元件；感光元件上的平坦化层；滤色器阵列层，其包括分别用于过滤具有第一颜色的第一光、具有第二颜色的第二光和具有第三颜色的第三光的第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器，滤色器阵列层在衬底的第一区上的平坦化层上；光阻挡金属图案，其在衬底的第二区上的平坦化层上；伪滤色器层，其包括第一伪滤色器，第一伪滤色器包括与第一滤色器基本相同的材料，伪滤色器层在第二区的邻近于衬底的第一区的一部分上的光阻挡金属图案上；以及滤色器阵列层上的微透镜。有源像素可在第一区中，光学黑(OB)像素可在第二区中。衬底的第一区在平面图中可具有矩形形状。

根据示例实施例，提供了一种图像传感器。图像传感器可包括：第一衬底，其在第一衬底的内部以及上方空间和下方空间限定第一区、第二区、第三区和第四区；包含第一布线的第一层间绝缘层，其在第三区中的第一衬底上；包含第二布线的第二层间绝缘层，其在第三区中的第一层间绝缘层上；第二层间绝缘层上的第二衬底；像素划分图案，其限定单位像素区，其中每个单位像素在第一区和第二区中的第二衬底中；每个单位像素区中的感光元件；转移栅极(TG)，其延伸穿过第二衬底的下部并且接触感光元件；浮置扩散(FD)区，其位于第二衬底的邻近于TG的下部处；第二衬底上的下平坦化层；下平坦化层上的滤色器阵列层，滤色器阵列层包括滤色器；滤色器之间的干扰阻挡结构；滤色器阵列层上的微透镜；光阻挡金属图案，其在第二区中的下平坦化层上；伪滤色器层，其在第二区的邻近于第一区的一部分中的光阻挡金属图案上；穿通件结构，其在第三区中延伸穿过下平坦化层、第二衬底、第二层间绝缘层和第一层间绝缘层的上部，穿通件结构共同接触第一布线和第二布线；光阻挡滤色器层，其在第二区和第三区中的光阻挡金属图案和穿通件结构上；以及焊盘，其延伸穿过下平坦化层和第二衬底的上部。第二区可包围第一区，第三区可包围第二区，第四区可包围第三区。