[发明专利]基于逻辑分层的图元渲染方法、装置、设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202211074643.1 申请日: 2022-08-31
公开(公告)号: CN115439441A 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 安永值;韩春营 申请(专利权)人: 东方晶源微电子科技(北京)有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/11;G06V10/764
代理公司: 北京汇知杰知识产权代理有限公司 11587 代理人: 李洁;魏文浩
地址: 100176 北京市大兴区北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 逻辑 分层 渲染 方法 装置 设备 存储 介质
【说明书】:

本申请提供了一种基于逻辑分层的图元渲染方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。该基于逻辑分层的图元渲染方法,包括:根据业务对图元进行分层分类;其中,各个分层分类后的图元携带有对应的分层分类信息;基于每个图元的分层分类信息,分别将每个图元与对应的渲染操作进行关联,得到对应的关联信息;基于关联信息,对目标图元执行对应的渲染操作。根据本申请实施例,能够解决现有技术中整体刷新渲染的问题。

技术领域

本申请属于半导体领域,尤其涉及一种基于逻辑分层的图元渲染方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质。

背景技术

在半导体工艺中,生产线良率表征的是晶圆从下线到成功出厂的概率,晶圆良率表征的是一片晶圆上的芯片合格率,晶圆良率是完成所有工艺步骤后测试合格的芯片的数量与整片晶圆上的有效芯片的比值,而良率管理旨在为生产制造环节的缺陷分析、发现、定位、诊断提供直接、有效手段,对提高整个芯片生产制造的合格率,降低成本具有重要意义。

良率管理软件,主要通过数据可视化方案为芯片厂不同机台、不同批次、不同时段的多片晶圆提供发现缺陷的精确来源及影响因素,通过呈现晶圆缺陷趋势表,晶圆缺陷分布图、叠加多片、多层晶圆检测图等方法,以图元为基本单元,包括点、线、文字、辅助文本以及标识性信息,构成数据分析视图的主要部分。

通过选择不同批次,不同机台,不同晶圆的数据源,进行图像缺陷的深度融合,而根据数据源变更,或用户通过编辑而改变信息参量,此时需要同步刷新视图中的所有图元,传统的刷新渲染方案,需要刷新整体视图所有信息,或针对某窗体内图元整体刷新渲染,在数据层面对图元无区分对待。

对于通过图像手段进行可视化展示的应用技术,通常将绘制、融合的图像以窗口布局的方式展现于用户,在进行数据变更或信息参量变化时,由于图像所对应的数据未在数据层面进行区分,往往是以窗口为单位,去整体刷新图像的所有元素。

在数据源发生变更或信息参量变化时,对于规模较大或图元类型复杂且规模庞大时,整体的刷新渲染,存在以下问题:其一,将产生不必要的系统开销;其二,在渲染耗时较长的情况下,整体重新渲染会大幅降低软件的友好性及可用性;其三,从软件层面上,整体刷新会额外增加软件的鲁棒性风险;其四,在有频繁刷新重绘需求的情况,可能会产生闪屏现象,占用过高的CPU资源。

有鉴于此,提出本申请。

发明内容

本申请实施例提供一种基于逻辑分层的图元渲染方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质,能够解决现有技术中整体刷新渲染的问题。

第一方面,本申请实施例提供一种基于逻辑分层的图元渲染方法,包括:

根据业务对图元进行分层分类;其中,各个分层分类后的图元携带有对应的分层分类信息;

基于每个图元的分层分类信息,分别将每个图元与对应的渲染操作进行关联,得到对应的关联信息;

基于关联信息,对目标图元执行对应的渲染操作。

进一步地,根据业务对图元进行分层分类,包括:

在数据层面对图元进行逻辑划分,并确定不同图元的分类信息;

对图元进行层次分割,并确定不同图元的层次分割信息;

其中,分层分类信息包括分类信息和层次分割信息。

进一步地,基于关联信息,对目标图元执行对应的渲染操作,包括:

利用软件的渲染单元,按照关联信息对目标图元执行对应的渲染操作。

进一步地,在根据业务对图元进行分层分类后,方法还包括:

在数据及信息参量发生变化时,更新分层分类信息;

基于更新后的分层分类信息,更新关联信息;

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