[发明专利]一种制备S形结构热障涂层的装置和方法

权利要求书

1.一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：

在腔室中设置至少两组装有待蒸发物的坩埚；

将经处理后的基材设置在所述装有待蒸发物的各坩埚上方，且使所述基材位于相邻的所述各坩埚之间；

开启运动机构，使所述基材在腔室内产生自转运动；

交替控制所述各坩埚内待蒸发物的蒸发状态和所述基材的自转方向，进行沉积涂层，重复上述过程若干次，直到涂层厚度满足要求为止。

2.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，将经处理后的基材设置在所述装有待蒸发物的各坩埚上方，且使所述基材位于相邻的所述各坩埚之间的步骤还包括：

装有待蒸发物的坩埚数量为两组；

使所述两组坩埚中心间距的一半不大于所述两组坩埚与所述基材的垂直距离。

3.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，所述交替控制坩埚内待蒸发物的蒸发状态和基材自转方向的步骤包括：

用电子枪轰击其中一坩埚，使该坩埚内的电子束束流升高，将该坩埚内的待蒸发物从熔化状态转变为蒸发状态，由运动机构驱动所述基材自转，开始沉积涂层；

待开始沉积涂层时间T后，降低所述坩埚内的电子束束流，使所述坩埚内的待蒸发物从蒸发状态恢复到熔化状态，并用电子枪轰击另一坩埚，使该坩埚内的电子束束流升高，将该坩埚内的待蒸发物从熔化状态转变为蒸发状态，由运动机构改变所述基材自转方向，继续沉积涂层。

4.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，在进行沉积涂层前，还包括对所述基材进行加热，使所述基材表面温度达到900～1000摄氏度。

5.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，在进行沉积涂层前，还包括对所述装有待蒸发物的至少两组坩埚进行加热，使所述坩埚中的待蒸发物加热到熔化状态。

6.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，在进行沉积涂层前，还包括关闭腔室门，对腔室抽真空。

7.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，所述坩埚内的待蒸发物为陶瓷材料中的一种或多种。

8.如权利要求1所述的一种制备S形结构热障涂层的方法，其特征在于，对所述基材进行处理的步骤包括：对基材表面进行喷砂处理，后清理基材表面。

9.一种制备S形结构热障涂层的装置，其特征在于，所述装置包括一腔室，所述腔室内设置有：

至少两组坩埚，所述至少两组坩埚内用于放置材料相同或材料不同或部分材料相同的待蒸发物；

运动部件，其用于驱动基材在所述腔室内自转；

至少两支电子枪或一支可高速偏转电子枪，用于轰击放置有所述待蒸发物的坩埚。

10.如权利要求9所述的一种制备S形结构热障涂层的装置，其特征在于，所述腔室内还设置有用于对所述基材进行加热的加热部件。