[发明专利]一种硅外延设备的冷却装置及硅外延设备

说明书

本发明公开了一种硅外延设备的冷却装置，包括水箱，所述水箱上设有出水管及回水管，冷却水从出水管输出再从回水管输入水箱，还包括控制模块，所述水箱顶部设有供水管，底部设有排水管，所述供水管及排水管上均设有阀门，所述阀门与控制模块连接，并由控制模块控制阀门的启闭。本发明还公开了一种硅外延设备。本发明具有结构简单、能够及时更换水箱内冷却水，保证冷却水质量的优点。

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，尤其涉及一种硅外延设备的冷却装置及硅外延设备。

背景技术

硅外延生长工艺在高温下进行，工艺完成之后的反应腔需用风冷以及水冷的方式进行快速降温以方便机械手取片，且给反应腔降温的冷却水需用杂质较少的去离子水，也叫纯水，以防冷却水中夹带的金属离子或杂质颗粒影响感应线圈等部件的功能，影响设备电气性能及工艺质量。

目前硅外延设备上往往自带冷却水水箱，通过厂务端供水，在设备开始工作之前会向水箱内注满足量的冷却水，多次循环冷却后再排掉以达到置换的目的。冷却水水箱中的水运送至需要冷却的各个部件，冷却各部件后的冷却水再流回冷却水水箱，与水箱中剩余的纯水混合降温后再分配至各冷却管路，往复循环直至硅外延设备需要维护再将冷却水水箱中的水全部置换。由此可以看出，现有技术中的冷却水水箱存在如下缺点：

1)冷却水水箱中的纯水只有在设备维护等时候才会全部置换一遍，无法在设备正常使用期间随时置换，使得在高温外延工艺后进行过多次冷却的冷却水质量较差，杂质较多；

2)冷却水在冷却过程中由于蒸发或者流失等作用导致水箱中的水会慢慢变少，若没有及时置换或补充冷却水可能会影响设备的冷却效果，降低设备产能；

3)没有在冷却水水箱中或在到需冷却的反应腔中间管路中设置过滤装置，往往只在厂务端供给侧加装了过滤装置，在经过一定次数冷却过程后其水质很可能会包含较多的杂质，影响工艺质量及设备使用寿命。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、能够及时更换水箱内冷却水，保证冷却水质量的硅外延设备的冷却装置及硅外延设备。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种硅外延设备的冷却装置，包括水箱，所述水箱上设有出水管及回水管，冷却水从出水管输出再从回水管输入水箱，还包括控制模块，所述水箱顶部设有供水管，底部设有排水管，所述供水管及排水管上均设有阀门，所述阀门与控制模块连接，并由控制模块控制阀门的启闭。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述水箱内设有液位开关组件，所述液位开关组件用于检测水箱内水位，所述液位开关组件与供水管上的阀门连接。

所述液位开关组件包括上限位开关及下限位开关，所述上限位开关及下限位开关均与供水管上的阀门连接。

所述上限位开关及下限位开关外侧设有开关挡板。

所述水箱内设有过滤器，所述出水管与过滤器连接。

所述过滤器设有多个，所述出水管上设有多个连接头，所述连接头与过滤器通过螺纹连接。

所述过滤器的外部设有过滤器挡板，所述过滤器挡板用于保护过滤器。

所述过滤器上设有旋拧部，所述旋拧部用于旋拧过滤器。

所述水箱顶部设有检修盖。

一种硅外延设备，包括设备本体，还包括上述的冷却装置，所述水箱安装于设备本体上，所述设备本体与出水管的出口端及回水管的入口端连接。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：