[发明专利]发光装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202210870809.4 申请日: 2022-07-22
公开(公告)号: CN115050863A 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 洪瑜亨;蔡维晟;黄耀纬;陈仕诚;郭浩中 申请(专利权)人: 鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/04;G02B27/00
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 康艳青;王琳
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 发光 装置 及其 制造 方法
【说明书】:

一种制造发光装置的方法包括以下流程。形成发光元件。通过电子计算器执行超颖介面的模拟。基于前述模拟,形成超颖介面。放置超颖介面于发光元件的出光侧上。通过电子计算器执行超颖介面的模拟包括以下流程。建立超颖介面的超颖介面模型,其中超颖介面模型具有多个单位晶胞,单位晶胞的多个相位补偿值在偏折方向上以超晶胞周期长度周期性地分布。调整单位晶胞的相位补偿值并设置出光波长的光源,以模拟超颖介面模型在不同的相位补偿值下的多个穿透率。选定在穿透率的穿透率峰值下的相位补偿值作为超颖介面的多个工艺参数。如此,能降低发光元件的出光能量损耗,提升最终整合装置的效能。

技术领域

发明有关于发光装置及其制造方法。

背景技术

随着显示科技的进步,可以通过应用超颖介面控制或改进视觉效果。超颖介面能够应用在发光元件上,能进一步实现对被动发光元件的出光光束调控,且超颖介面的尺寸可相近甚至低于发光元件的出光波长。举例而言,组成超颖介面的超颖原子为次波长几何结构。然而,若采用直接整合超颖介面于发光元件的手段,由于牵涉到超颖介面本身为小尺寸的结构,将影响到整合精准度与最终整合装置的效能,甚至导致出光能量耗损。

因此,如何提供一种解决方案,能够减缓发生于异质整合介面的强反射现象,降低发光元件的出光能量损耗,进一步提升最终整合发光元件与超颖介面的发光装置的效能,是所属领域技术人员所欲解决的课题之一。

发明内容

本发明的一态样有关于一种制造发光装置的方法。

根据本发明的一或多个实施方式,一种制造发光装置的方法包括以下流程。形成发光元件。通过电子计算器执行超颖介面的模拟。基于前述模拟,形成超颖介面。放置超颖介面于发光元件的出光侧上。通过电子计算器执行超颖介面的模拟包括以下流程。决定偏折方向与偏折角度。依据偏折角度与发光元件的出光波长,决定超颖介面在偏折方向上的超晶胞周期长度。建立超颖介面的超颖介面模型,其中超颖介面模型具有多个单位晶胞,单位晶胞的多个相位补偿值在偏折方向上以超晶胞周期长度周期性地分布。调整单位晶胞的相位补偿值并设置出光波长的光源,以模拟超颖介面模型在不同的相位补偿值下的多个穿透率。选定在穿透率的穿透率峰值下的相位补偿值作为超颖介面的多个工艺参数。

在本发明的一或多个实施方式中,形成的超颖介面进一步包括透明基材。超颖原子形成于透明基材上。放置超颖介面于发光元件的出光侧上包括以下流程。异质接合超颖介面的透明基材至发光元件的出光侧。

在本发明的一或多个实施方式中,单位晶胞以六角晶格周期性排列。

在本发明的一或多个实施方式中,每个单位晶胞包括超颖原子柱。超颖原子柱包括相同高度的多个正方柱或多个圆柱。单位晶胞的超颖原子柱分别产生单位晶胞的相位补偿值。调整单位晶胞的相位补偿值包括以下流程。调整超颖原子柱的多个宽度。

在本发明的一或多个实施方式中,当通过电子计算器执行超颖介面的模拟时,超晶胞周期长度从超颖介面模型的单位晶胞定义出相同的多个超晶胞。每个超晶胞包括第一单位晶胞以及多个从属单位晶胞。第一单位晶胞具有第一相位补偿值。多个从属单位晶胞相对第一单位晶胞沿偏折方向等距地排列。从属单位晶胞具有多个从属相位补偿值。相位补偿值相对第一相位补偿值沿偏折方向等差地增加。调整单位晶胞的相位补偿值包括以下流程。针对每个超晶胞,调整第一单位晶胞的第一相位补偿值,并且使得从属单位晶胞的从属相位补偿值相应第一相位补偿值调整。

本发明的一态样有关于一种制造发光装置的方法。

根据本发明的一或多个实施方式,一种制造发光装置的方法包括以下流程。形成发光元件。形成超颖介面,其中超颖介面具有多个单位晶胞,每个单位晶胞具有相应相位补偿值的超颖原子柱,这些超颖原子柱具有相同的高度与不同宽度,且这些超颖原子柱在偏折方向上超具有超颖介面的超晶胞周期长度的周期性,其中超晶胞周期长度由预定偏折角度与发光元件的出光波长所决定。接合超颖介面于该发光元件的出光侧上。

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