[发明专利]发光装置及其制造方法

权利要求书

1.一种制造发光装置的方法，其特征在于，包括：

形成发光元件；

通过电子计算器执行超颖介面的模拟，包括：

决定偏折方向与偏折角度；

依据该偏折角度与该发光元件的出光波长，决定该超颖介面在该偏折方向上的超晶胞周期长度；

建立该超颖介面的超颖介面模型，其中该超颖介面模型具有多个单位晶胞，所述多个单位晶胞的多个相位补偿值在该偏折方向上以该超晶胞周期长度周期性地分布；

调整所述多个单位晶胞的相位补偿值并设置该出光波长的光源，以模拟该超颖介面模型在不同的所述多个相位补偿值下的多个穿透率；以及

选定在所述多个穿透率的穿透率峰值下的所述多个相位补偿值作为该超颖介面的多个工艺参数；

基于该模拟，形成该超颖介面；以及

放置该超颖介面于该发光元件的出光侧上。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成的该超颖介面进一步包括透明基材，所述多个超颖原子形成于该透明基材上，放置该超颖介面于该发光元件的该出光侧上包括：

异质接合该超颖介面的该透明基材至该发光元件的该出光侧。

3.如权利要求1至2任一所述的方法，其特征在于，所述多个单位晶胞以六角晶格周期性排列。

4.如权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，每一该单位晶胞包括超颖原子柱，所述多个超颖原子柱包括相同高度的多个正方柱或多个圆柱，所述多个单位晶胞的所述多个超颖原子柱分别产生所述多个单位晶胞的所述多个相位补偿值，调整所述多个单位晶胞的相位补偿值包括：

调整所述多个超颖原子柱的多个宽度。

5.如权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，当通过该电子计算器执行该超颖介面的该模拟时，该超晶胞周期长度从该超颖介面模型的所述多个单位晶胞定义出相同的多个超晶胞，每一该超晶胞包括：

第一单位晶胞，具有第一相位补偿值；以及

多个从属单位晶胞，相对该第一单位晶胞沿该偏折方向等距地排列，其中所述多个从属单位晶胞具有多个从属相位补偿值，所述多个相位补偿值相对该第一相位补偿值沿该偏折方向等差地增加，

其中调整所述多个单位晶胞的相位补偿值包括：

针对每一该超晶胞，调整该第一单位晶胞的该第一相位补偿值，并且使得所述多个从属单位晶胞的所述多个从属相位补偿值相应该第一相位补偿值调整。

6.一种制造发光装置的方法，其特征在于，包括：

形成发光元件；

形成超颖介面，其中该超颖介面具有多个单位晶胞，每一该单位晶胞具有相应相位补偿值的超颖原子柱，所述多个超颖原子柱具有相同的高度与不同宽度，且在偏折方向上具有该超颖介面的超晶胞周期长度的周期性，其中该超晶胞周期长度由预定偏折角度与该发光元件的出光波长所决定；以及

接合该超颖介面于该发光元件的出光侧上。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，进一步包括：

在接合该超颖介面于该发光元件的该出光侧上之前，检测该超颖介面的穿透率。

8.一种发光装置，其特征在于，包括：

发光元件，包括出光侧并具有出光波长的光源；以及

超颖介面，位于该发光元件的该出光侧上，其中该超颖介面包括沿偏折方向的超晶胞周期长度周期性排列多个单位晶胞，每一该单位晶胞相对该出光波长具有相应相位补偿值的超颖原子柱，其中该超晶胞周期长度从所述多个单位晶胞中定义出相同的多个超晶胞，每一该超晶胞包括：

第一单位晶胞，其中该第一单位晶胞具有对应第一相位补偿值的第一超颖原子柱；以及

多个从属单位晶胞，相对该第一单位晶胞沿该偏折方向等距地排列，其中所述多个从属单位晶胞具有多个从属相位补偿值，所述多个相位补偿值相对该第一相位补偿值沿该偏折方向等差地增加，所述多个从属相位补偿值中的任意一者与该第一相位补偿值的差值小于360度，

其中该第一相位补偿值设置使该超颖介面相对该出光波长具有一穿透率峰值。