[发明专利]蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的测量装置及方法在审

专利信息
申请号: 202210796115.0 申请日: 2022-07-06
公开(公告)号: CN115077874A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 张宇贤;王琼华;郭玉强;储繁 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01N21/41
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 张萍
地址: 100089*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 电场 双折射 测量 装置 方法
【说明书】:

本申请提供了蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的测量装置及方法,涉及蓝相液晶技术领域,包括:激光器、第一偏振片、1/4波片、第二偏振片、光电探测器、电场产生装置和数据处理模块;第一偏振片、1/4波片、蓝相液晶样品器件、第二偏振片和光电探测器依次设置在激光器发出光束的光路上;电场产生装置为蓝相液晶样品器件产生预设场强的电场,且电场方向垂直于蓝相液晶器件的基板平面和1/4波片;光电探测器采集激光器发出光束的光路上的光强信息;数据处理模块对光电探测器采集的零场下的透射光谱的光强值,以及电场下的透射光谱的光强值进行处理,得到蓝相液晶在电场法向的场致双折射率。本申请能够实现蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的测量。

技术领域

本申请涉及蓝相液晶技术领域,尤其是涉及蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的测量装置及方法。

背景技术

蓝相液晶作为一种重要的电光材料,蓝相液晶器件的工作原理是基于电场诱导的双折射率变化。近年来的研究逐渐表明,在沿着蓝相单晶的不同晶轴施加电场时,所诱导的双折射率变化不同;另一方面,由于蓝相液晶在电场中会发生三维方向的晶格常数变化,从而导致在沿晶格的三个正交方向上的主折射率和介电张量均不相等,且在电场法向存在分量。因此,蓝相液晶在电场中的电光特性不能再用统一的场致双折射率表示,深入表征蓝相液晶的电光特性,需要测量蓝相液晶在相对于电场的不同方向上的双折射率变化。

目前对于蓝相液晶电光特性的表征主要集中在沿电场方向的场致双折射率变化,对于蓝相液晶在电场法向的场致双折射率,多采用理论推算,还没有实际的测量装置和方法。因此,亟待提出一种能够精确地测量蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的装置和方法。

发明内容

有鉴于此,本申请提供了蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的测量装置及方法,以解决上述技术问题。

第一方面,本申请实施例提供了一种蓝相液晶在电场法向的场致双折射率的测量装置,包括:激光器、第一偏振片、1/4波片、第二偏振片、光电探测器、电场产生装置和数据处理模块;第一偏振片、1/4波片、蓝相液晶样品器件、第二偏振片和光电探测器依次设置在激光器发出光束的光路上;第一偏振片和第二偏振片正交放置,1/4波片的光轴和第一偏振片的偏振化方向的夹角为45度;1/4波片的光轴和第二偏振片的偏振化方向的夹角为45度;所述蓝相液晶样品器件包括:第一基板、第二基板以及夹在两个基板间的蓝相液晶样品;所述1/4波片与蓝相液晶样品器件平行放置;

所述电场产生装置,用于为蓝相液晶样品器件产生预设场强的电场,且电场方向垂直于蓝相液晶器件的基板平面和1/4波片;

所述光电探测器,用于采集激光器发出光束的光路上的光强信息;

所述数据处理模块,用于对光电探测器采集的零场下的透射光谱的光强值,以及电场下的透射光谱的光强值进行处理,得到蓝相液晶在电场法向的场致双折射率。

进一步,所述第一偏振片为起偏器;所述第二偏振片为检偏器。

进一步,所述电场产生装置包括信号发生器和电压放大器;所述电压放大器的输出端分别与第一基板和第二基板连接;所述信号发生器,用于产生特定波形的电信号;所述电压放大器,用于将电信号放大至预设场强值,输出至蓝相液晶样品器件。

进一步,所述数据处理模块具体用于:

获取光电探测器采集的零场下的透射光谱中最小光强值对应的波长λ0

获取光电探测器采集的电场下的透射光谱中最小光强值对应的波长λ;

计算蓝相液晶样品在电场法向的场致双折射率Δn:

其中,d为蓝相液晶样品在第一基板和第二基板之间的厚度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210796115.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top