[发明专利]目标跟踪方法、装置、计算机设备和存储介质在审
| 申请号: | 202210792744.6 | 申请日: | 2022-07-05 |
| 公开(公告)号: | CN115115989A | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
| 发明(设计)人: | 刘志昌;陈键;王栋年;夏广远;邹姗蓉 | 申请(专利权)人: | 珠海格力电器股份有限公司 |
| 主分类号: | G06V20/40 | 分类号: | G06V20/40;G06V10/82;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司: | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人: | 徐洪微 |
| 地址: | 519070*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 目标 跟踪 方法 装置 计算机 设备 存储 介质 | ||
1.一种目标跟踪方法,其特征在于,所述方法包括:
获取视频帧序列,其中,所述视频帧序列包括多个连续的帧图片,所述帧图片包括待跟踪对象;
基于首帧图片中目标区域相应特征的卷积结果,确定通道修剪参数以及目标区域对应的目标深度特征图,其中,所述首帧图片为所述视频帧序列中位于首位的所述帧图片,所述目标区域为所述帧图片中包含待跟踪对象的区域;
确定目标帧图片中的目标搜索区域以及所述目标搜索区域对应的第二深度特征图,其中,所述目标帧图片为所述视频帧序列中除所述首帧图片以外的任意一个所述帧图片,所述目标搜索区域包含所述目标区域,所述第二深度特征图包括n个特征通道对应的第二子特征图;
按照所述通道修剪参数对所述第二深度特征图进行通道修剪,得到相应的第二保留特征图,其中,所述第二保留特征图包括m个特征通道对应的第二子特征图,m小于n,n和m为不同的正整数;
基于所述第二保留特征图与所述目标深度特征图的卷积结果,确定所述目标区域在所述目标帧图片中的目标定位坐标。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于首帧图片中目标区域相应特征的卷积结果,确定通道修剪参数,包括:
按照第一预设尺寸以所述目标区域为中心在所述首帧图片中框选出首帧搜索区域,其中,所述第一预设尺寸大于所述目标区域的第二预设尺寸;
通过特征提取分别确定所述目标区域对应的所述第一深度特征图以及所述首帧搜索区域对应的第三深度特征图,其中,所述第一深度特征图包括n个特征通道对应的第一子特征图,所述第三深度特征图包括n个特征通道对应的第三子特征图;
对各个所述特征通道对应的所述第一子特征图和所述第三子特征图进行卷积处理,得到各个所述特征通道对应的响应图矩阵,其中,所述响应图矩阵包括多个第一响应元素,各个所述第一响应元素对应所述首帧搜索区域中的不同位置;
根据各个所述响应图矩阵中属于背景区域的所述第一响应元素对应数值与元素均值之间的差值,确定各个所述特征通道对应的背景方差,其中,所述通道修剪参数包括各个所述特征通道对应的背景方差,所述背景区域为所述首帧搜索区域中除所述目标区域以外的区域,所述元素均值为所述响应图矩阵中属于所述背景区域的全部所述第一响应元素相应数值的平均值。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,基于首帧图片中目标区域相应特征的卷积结果,确定目标区域对应的目标深度特征图,包括:
按照各个所述特征通道对应的背景方差对所述第三深度特征图进行通道修剪,得到通道修剪后的第三保留特征图,其中,所述第三保留特征图包括m个保留通道对应的第三子特征图,所述保留通道为任意一个所述特征通道,所述第三子特征图的尺寸为所述第一预设尺寸;
在各个所述保留通道对应的所述第三子特征图中确定多个样本区域以及所述样本区域相应的回归核参数,其中,所述样本区域的尺寸为所述第二预设尺寸;
根据各个所述保留通道所对应的多个所述样本区域相应的回归核参数,确定各个所述保留通道相应的通道权重;
根据各个所述保留通道对应的所述第一子特征图以及各个所述保留通道相应的通道权重,确定所述目标区域对应的目标深度特征图。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述确定目标帧图片中的目标搜索区域以及所述目标搜索区域对应的第二深度特征图,包括:
获取所述目标帧图片相邻的上一帧图片中所述目标区域的中心点坐标,得到第一定位坐标;
按照所述第一预设尺寸以所述第一定位坐标为中心在所述目标帧图片中框选出目标搜索区域;
对所述目标搜索区域进行特征提取,得到所述目标搜索区域对应的第二深度特征图。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述按照所述通道修剪参数对所述第二深度特征图进行通道修剪,得到相应的第二保留特征图,包括:
将所述多个特征通道中背景方差小于或等于预设方差的特征通道作为保留通道;
根据各个所述保留通道对应的第二子特征图,生成所述第二保留特征图。
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