[发明专利]一种IGZO溅射靶材制备方法

权利要求书

1.一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于，该制备方法包括：

预处理：将In₂O₃、Ga₂O₃和ZnO粉末放入球磨罐混合，并加入纯水、有机分散剂，球磨罐时间不低于36h；

造粒：将混合后的IGZO浆料通过蠕动泵的蠕动使浆料注入雾化造粒机中，通过雾化造粒机得到了干燥的IGZO造粒粉；

成型：依次对IGZO造粒粉进过模压和等静压，成型后得到靶材坯体；

成品：对靶材坯体进行烧结及脱脂，得到致密化的靶材成品。

2.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述In₂O₃、Ga₂O₃和ZnO之间的摩尔比例为1：1：(1-8)。

3.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述预处理步骤中，将配置好混合物质的球磨罐在行星球磨机上进行湿磨处理，转速为250r/min，球磨36h后，将使用去离子水溶解的粘结剂溶液加入浆料中，控制球磨罐内的浆料固含量＝60％，且分散剂及粘结剂的添加量≤1％。

4.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述造粒步骤中，IGZO浆料通过雾化造粒机的喷嘴将浆料雾化为极细小的液滴，喷嘴处有内置气泵及加热器产生的高温压缩空气，使得液滴在喷出的瞬间干燥。

5.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述造粒步骤中，将制备完成的造粒粉通过干燥器管道进入集粉瓶中，而未成型的较轻粉末通过上方管道排出，未形成球形粉的团集大颗粒则沉淀在干燥器下部的废粉瓶中。

6.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述成型步骤中，模压压力设置为40-60MPa，保压3-5min。

7.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述成品步骤中，烧结升温速率≤3℃/min，脱脂升温速率＜0.5℃/min。

8.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述成品步骤中，烧结时需要保持炉膛气体流通，气体通量为12L/min，烧结完成后，逐渐降低温度至室温，之后将烧结后的IGZO靶材取出。

9.如权利要求1所述的一种IGZO溅射靶材制备方法，其特征在于：所述成品制备过程中，烧结后，对IGZO靶材进行退火，退火时以600℃的空气氛围下烘烤1h。