[发明专利]封堵植入物及其制备方法

权利要求书

1.一种封堵植入物，其特征在于，包括：

第一线圈，所述第一线圈通过编织材料编织构成，所述编织材料至少包含第一丝材，所述第一丝材为通过静电纺丝方式制备而成的电纺纱线；

第二线圈，所述第二线圈设置在所述第一线圈的内部，所述第二线圈包括显影材料和聚合物材料；

抗解旋部件，所述抗解旋部件与所述第一线圈和/或所述第二线圈连接。

2.根据权利要求1所述的封堵植入物，其特征在于，所述第一线圈的近端封闭；和/或，所述第一线圈的远端封闭。

3.根据权利要求1所述的封堵植入物，其特征在于，所述编织材料至少包含第一丝材和第二丝材，所述第一丝材和所述第二丝材的降解速率不同。

4.根据权利要求3所述的封堵植入物，其特征在于，所述第一丝材的材料包括聚左旋乳酸和聚已酸丙酯中的任意一种或组合；和/或，

所述第二丝材的材料包括聚二氧六环酮、消旋聚乳酸和聚羟基乙酸中的任意一种或组合。

5.根据权利要求1所述的封堵植入物，其特征在于，所述抗解旋部件的至少一部分设置在所述第二线圈的内部。

6.根据权利要求5所述的封堵植入物，其特征在于，所述抗解旋部件包括抗解旋段和连接段，所述抗解旋段处于所述第二线圈的内部，所述连接段位于所述第二线圈的近端的外部。

7.根据权利要求1所述的封堵植入物，其特征在于，所述抗解旋部件的材料为可降解材料。

8.根据权利要求7所述的封堵植入物，其特征在于，所述抗解旋部件的材料包括聚二氧六环酮、消旋聚乳酸、聚羟基乙酸、聚左旋乳酸、聚羟基乙酸、聚乳酸共聚物、聚已酸丙酯、聚对二氧环已酮中的任意一种或组合。

9.根据权利要求1所述的封堵植入物，其特征在于，所述第二线圈中的显影材料与聚合物材料的质量比在1：2至4：1之间。

10.一种封堵植入物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将可降解高分子溶解在溶剂中制备均质溶液，利用静电纺丝方式制备纺丝薄膜，拉伸所述纺丝薄膜形成电纺纱线，利用所述电纺纱线编织第一线圈；

利用显影材料和聚合物材料制备第二线圈，将所述第二线圈设置在所述第一线圈的内部；

对所述第一线圈和所述第二线圈进行定型处理，并在所述第一线圈和/或所述第二线圈上连接抗解旋部件。