[发明专利]一种抗折痕的涂布反射膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种抗折痕的涂布反射膜及其制备方法，包括反射基膜、设置在反射基膜上的自修复层、位于自修复层表面的无机粒子层以及位于无机粒子层表面的弹性粒子层；所述自修复层、无机粒子层和弹性粒子层由自修复层涂布液、无机粒子层涂布液和弹性粒子层涂布液分层涂布制成；无机粒子层涂布液的粘度低于弹性粒子层涂布液的粘度。本发明在反射基膜上设置自修复层，使反射膜产生折皱时能够快速恢复，减少膜面的折痕，并减小自修复层的热收缩率；同时，在自修复层上设置无机粒子层，提升反射膜的热收缩性能；再在无机粒子层上设置弹性粒子层，避免无机粒子对导光板的刮伤。

技术领域

本发明涉及光学反射膜技术领域，尤其是涉及一种抗折痕的涂布反射膜及其制备方法。

背景技术

反射膜是透过界面传播光束的一类光学介质材料，由多层薄的分层介质材料构成。反射膜按应用领域分主要为液晶显示用反射膜，另有部分应用为半导体照明用反射膜。液晶显示用反射膜主要应用在背光模组里，反射膜位于背光模组的最底层，其主要是作用提高光的利用率，原理是利用反射膜将部分光线反射至背光模组的出光方向，因此反射率是反射膜的核心性能指标之一。半导体照明用反射膜原理同液晶显示用反射膜相同。

反射膜在组装过程中容易出现折痕，影响膜面纹路，同时在背光模组中可能影响最终显示效果。目前，一般是通过向反射膜的配方原料中添加无机材料以提高反射膜的挺度，从而避免发生褶皱。例如，在中国专利文献上公开的“一种耐折聚酯反射膜及其制备方法”，其公开号CN106908877A，该反射膜具有ABA三层结构；A层的材料包括聚酯树脂和无机粒子；B层的材料包括聚酯树脂、无机粒子、不相容树脂α、不相容树脂β、增韧树脂、扩链剂、成核剂、分散剂。该发明通过在A层和B层原料中添加无机粒子，以提升反射膜的耐折性。

但是无机材料的加入会影响反射膜的辉度和反射率，因此通过无机材料改善反射膜的挺度时，无机材料的添加量受到一定限制，反射膜的耐折性提升有限，尤其是当反射膜的厚度较薄时，这种情况更为突出。

发明内容

本发明是为了克服现有技术中的反射膜在组装过程中容易出现折痕的问题，提供一种抗折痕的涂布反射膜及其制备方法，在反射基膜上设置自修复层，使反射膜产生折皱时能够快速恢复，减少膜面的折痕，并减小自修复层的热收缩率；同时，在自修复层上设置无机粒子层，提升反射膜的热收缩性能；再在无机粒子层上设置弹性粒子层，避免无机粒子对导光板的刮伤。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种抗折痕的涂布反射膜，包括反射基膜、设置在反射基膜上的自修复层、位于自修复层表面的无机粒子层以及位于无机粒子层表面的弹性粒子层；所述自修复层、无机粒子层和弹性粒子层由自修复层涂布液、无机粒子层涂布液和弹性粒子层涂布液分层涂布制成；无机粒子层涂布液的粘度低于弹性粒子层涂布液的粘度；以质量百分数计，所述自修复层涂布液的组分包括：35~45%的自修复树脂，7~9%的自修复树脂固化剂，余量为溶剂；所述无机粒子层涂布液的组分包括：10~15%的聚丙烯酸酯胶粘剂，20~30%的有机硅树脂胶粘剂，0.5~1%的固化剂，1~1.5%的硅烷偶联剂，5~8%的无机粒子，余量为溶剂；所述弹性粒子层涂布液的组分包括：20~30%的弹性粒子，15~20%的聚丙烯酸酯胶粘剂，1~2%的固化剂，余量为溶剂；所述聚丙烯酸酯胶粘剂的固含量为40~60wt%，所述有机硅树脂胶粘剂的粘度为100~200cps；所述无机粒子的粒径为2~3μm；所述弹性粒子的粒径为3~5μm；所述自修复层涂布液的涂布厚度为5~8μm；所述无机粒子层的涂布厚度为2~4μm，所述弹性粒子层涂布液的涂布厚度为3~5μm。

本发明在反射基膜表面设置由自修复树脂涂布而成的自修复层，利用自修复树脂的本征自修复性能，使反射膜在发生弯折时能够快速恢复，减少膜面的折痕。由于自修复树脂易发生热收缩，导致反射膜产生膜拱、褶皱、分层等不良现象，因此本发明在自修复层上设置无机粒子层，以减小自修复层的热收缩。但无机粒子的硬度较大，添加后反射膜容易刮伤导光板，因此本发明又在无机粒子层表面设置了弹性粒子层，通过弹性粒子避免导光板刮伤。