[发明专利]自动阻抗匹配方法、装置、系统、电子设备及存储介质在审
申请号: | 202210647899.0 | 申请日: | 2022-06-09 |
公开(公告)号: | CN115020180A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 胡琅;李晓峰;姚龙;吴添洪 | 申请(专利权)人: | 季华实验室 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H03H7/38 |
代理公司: | 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 | 代理人: | 罗尹清 |
地址: | 528200 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 阻抗匹配 方法 装置 系统 电子设备 存储 介质 | ||
本申请涉及半导体制造领域,具体而言,涉及一种自动阻抗匹配方法、装置、系统、电子设备及存储介质,用于匹配反应腔室中的阻抗,所述一种自动阻抗匹配方法包括以下步骤:获取所述等离子体的阻抗信息;获取所述等离子体的阻抗标准表,所述阻抗标准表包括多个根据所述等离子体阻抗变化情况划分的工作状态区间,所述阻抗标准表为根据所述等离子体的在前活化过程生成;根据所述阻抗标准表及所述阻抗信息获取所述等离子体的当前工作状态;根据所述当前工作状态调节阻抗匹配箱的阻抗以进行阻抗匹配,本申请通过先采集后匹配的方法,实现阻抗的自适应快速匹配,同时该自适应匹配方法可适用于多个平台。
技术领域
本申请涉及半导体制造领域,具体而言,涉及一种自动阻抗匹配方法、装置、系统、电子设备及存储介质。
背景技术
随着科技及现代工业的发展,射频电源的应用也越来越广泛,现已深入到真空镀膜,等离子设备清洗,半导体刻蚀等多个领域,包括射频放电、射频加热等方面的应用,射频电源的作用是为后端的反应腔室提供高频能量,将输入的气体等离子体化后获得活性分子。由于反应腔室的气体,在等离子体化前后,其阻抗特性变化剧烈,如果阻抗失配,将会有较大的射频功率从腔体反射回射频电源,造成射频电源的损坏。因为须在射频电源及反应腔室间设置阻抗匹配箱,用以进行二者的阻抗匹配,从而将功率高效率馈入反应腔室。
现有的自动阻抗匹配方法一般为在工作中检测等离子体的阻抗值,再改变工作频率来适配当前的谐振频率,使得阻抗得以与阻抗箱中的阻抗相匹配,而此种方法匹配时间较长,需要多次迭代才能完成阻抗匹配过程,效率较低。
针对上述问题,目前尚未有有效的技术解决方案。
发明内容
本申请的目的在于提供一种自动阻抗匹配方法、装置、系统、电子设备及存储介质,旨在解决自动匹配阻抗计算量大、效率较低的问题。
第一方面,本申请提供了一种自动阻抗匹配方法,用于匹配反应腔室中的阻抗,一种自动阻抗匹配方法包括以下步骤:
获取等离子体的阻抗信息;
获取等离子体的阻抗标准表,阻抗标准表包括多个根据等离子体阻抗变化情况划分的工作状态区间,阻抗标准表为根据等离子体的在前活化过程生成;
根据阻抗标准表及阻抗信息获取等离子体的当前工作状态;
根据当前工作状态调节阻抗匹配箱的阻抗以进行阻抗匹配。
本申请提供的自动阻抗匹配方法,在阻抗匹配前先进行等离子体的在前活化过程,通过获取在前活化过程中等离子体的阻抗信息生成具有不同工作状态区间的阻抗标准表,在工作阶段时,根据等离子体的阻抗信息匹配阻抗标准表中的对应工作状态区间,从而使等离子体快速完成阻抗匹配,本申请通过先采集后匹配的方法,在在前活化过程中建立阻抗标准表,使在工作过程中可直接通过获取阻抗信息自动匹配阻抗标准表中的各工作状态区间,从而实现阻抗的自动快速匹配,提高匹配效率,同时由于设置在前活化过程,因此可根据不同平台的不同参数建立对应的阻抗标准表,使该自动阻抗匹配方法可适用于多个平台。
可选地,本申请提供的一种自动阻抗匹配方法,获取等离子体的阻抗信息的步骤包括:
获取电压信息、电流信息以及相位角信息;
根据电压信息、电流信息以及相位角信息生成等离子体的阻抗信息。
可选地,本申请提供的一种自动阻抗匹配方法,阻抗标准表的生成过程包括:
利用射频电源对等离子体进行在前活化;
获取等离子体在前活化过程中的基准阻抗信息;
根据基准阻抗信息建立阻抗标准表;
根据阻抗标准表中基准阻抗信息关于时间的斜率变化将阻抗标准表划分为多个工作状态区间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于季华实验室,未经季华实验室许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210647899.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。