[发明专利]聚硅氧烷改性氧化锆粉体的制备方法、涂覆液及光学膜

权利要求书

1.一种聚硅氧烷改性氧化锆粉体的制备方法，其特征在于，将聚硅氧烷与氧化锆分散液混合反应得到所述聚硅氧烷改性氧化锆粉体；

其中，所述聚硅氧烷通过硅烷偶联剂水解后再聚合得到。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述聚硅氧烷的添加量为氧化锆质量的5wt.％-45wt.％；

优选地，所述氧化锆分散液为有机溶剂相的氧化锆分散液；

优选地，所述有机溶剂包括丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯和乙酸中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在硅烷偶联剂中加入第一溶剂和纯水进行硅烷偶联剂的水解；

优选地，所述硅烷偶联剂包括3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(三甲氧基甲硅烷基丙基)异氰脲酸酯、3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、3-脲基丙基三烷氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧丙基三乙氧基硅烷和3-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷中的至少一种；

优选地，所述第一溶剂包括乙醇、异丙醇、十一醇、十二醇、十八醇、甲基异丁基甲酮和丁酮中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述硅烷偶联剂、所述第一溶剂和所述纯水的质量比为20-60：40-100：1，优选为30:60:1。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，加入碱进行所述聚合；

优选地，所述碱包括氨水、碱土金属的碳酸盐、碳酸氢盐、氢氧化物或磷酸盐；

优选地，还包括在混合反应后的洗涤和离心得到所述聚硅氧烷改性氧化锆粉体。

6.一种权利要求1-5任一项所述的制备方法制备得到的聚硅氧烷改性氧化锆粉体。

7.一种涂覆液，其特征在于，包括丙烯酸树脂单体、UV固化型丙烯酸树脂、聚硅氧烷改性氧化锆分散液、第二溶剂和光引发剂；

其中，所述聚硅氧烷改性氧化锆分散液包括权利要求6所述的聚硅氧烷改性氧化锆粉体。

8.根据权利要求7所述的涂覆液，其特征在于，所述UV固化型丙烯酸树脂包括季戊四醇三丙烯酸酯和/或新戊二醇二丙烯酸酯；

优选地，所述光引发剂的含量为0.1wt.％-5wt.％；

优选地，所述第二溶剂的质量含量为80％-90％；

优选地，所述聚硅氧烷改性氧化锆分散液、所述丙烯酸树脂单体和所述UV固化型丙烯酸树脂的质量比为4:1-4:1-4。

9.根据权利要求7所述的涂覆液，其特征在于，所述丙烯酸树脂单体包括季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、丙烯酸异辛酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二缩三丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯和三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯中的额至少一种。

10.一种光学膜，其特征在于，由权利要求7-9任一项所述的涂覆液制备得到。