[发明专利]用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备及工艺在审
| 申请号: | 202210558500.1 | 申请日: | 2022-05-20 |
| 公开(公告)号: | CN115132927A | 公开(公告)日: | 2022-09-30 |
| 发明(设计)人: | 安扬;袁晨辰;朱桂;张茜;范斌;田清勇 | 申请(专利权)人: | 昆山协鑫光电材料有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48 |
| 代理公司: | 苏州企航知识产权代理事务所(普通合伙) 32354 | 代理人: | 朱丹 |
| 地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 大面积 钙钛矿 薄膜 表面 处理 设备 工艺 | ||
1.一种用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备,其特征在于,包括
主反应系统,所述主反应系统包括主反应腔、位于主反应腔内的基板加热装置,所述主反应腔上设有进气口、排气口以及进料口和出料口;
上下料系统,与所述主反应腔的进料口和出料口对应,所述进料口和出料口处设有密封门;
进气系统,包括反应槽,所述反应槽上连通载气进入口和载气排出口,所述载气排出口与所述主反应腔连通,所述反应槽内设有表面处理物;
排气系统,包括与所述主反应腔连通的排气管和冷阱或热阱,所述排气管上连接有气泵,所述排气管与所述载气排出口连通。
2.根据权利要求1所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备,其特征在于,所述基板加热装置包括板体,所述板体内嵌有加热电阻。
3.根据权利要求1所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备,其特征在于,所述表面处理物为反应液,所述载气进气口位于所述反应槽底部,将气体通入反应液。
4.根据权利要求1所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备,其特征在于,所述表面处理物为气体,所述反应槽内设有气体发生装置。
5.根据权利要求1所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备,其特征在于,所述上下料系统包括位于所述主反应腔的进料口和出料口处输送带。
6.根据权利要求1所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理设备,其特征在于,所述上下料系统包括位于所述主反应腔的进料口和出料口的机械手。
7.一种用于大面积钙钛矿薄膜表面处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1:在反应槽内注入钙钛矿表面处理溶液,同时对溶液加热至室温~100℃,并将载气从载气进入口通入反应槽内,并形成溶液鼓泡,收集带有溶液的湿润载气;
S2:将涂有钙钛矿活性层的玻璃基片由上下料系统送至主反应腔内的基板上,随后主反应腔的进料口和出料口封闭,载气从进气系统的载气排出口进入主反应腔;
S3:基板加热至室温~200℃,携带溶液的载气与钙钛矿活性层充分反应形成二维-三维混合钙钛矿;
S4:产生的尾气通过气泵通入热阱中。
8.根据权利要求7所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理工艺,其特征在于,所述钙钛矿表面处理溶液为碘化苯乙胺的异丙醇溶液或甲醇。
9.一种用于大面积钙钛矿组件传输层处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1:将表面处理气体与载气按比例混合后直接通过进气系统通入主反应腔内,并对主反应腔内加热至室温-100℃;
S2:将钙钛矿组件半成品由上下料系统送至主反应腔内的基板上,随后主反应腔的进料口和出料口封闭,排气系统的真空泵开始从主反应腔抽气形成真空,载气从进气系统的载气排出口进入主反应腔;
S3:待样品进入反应腔并通入载气后,进行基板加热至室温-200℃,表面处理气体和传输层发生化学反应,持续30分钟;
S4:产生的尾气包括二氧化碳和氮气,通过气泵通入热阱后直接排出。
10.根据权利要求9所述的用于大面积钙钛矿薄膜表面处理工艺,其特征在于,S3中,在主反应腔内提前加装光源,通过光源照射下,表面处理气体与传输层发生化学反应。
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