[发明专利]化学机械研磨设备及研磨方法

权利要求书

1.一种化学机械研磨设备，其特征在于，包括：

固定工作台；

研磨平台，设置在固定工作台上；

研磨头（40），设置在固定工作台的上方；

装卸承载台，设置在所述固定工作台上，所述装卸承载台包括：承载部（10），具有承载平面；研磨部，设置在所述承载部（10）上，所述研磨部用于与晶圆接触；液体输出部，设置在承载部（10）的外侧，所述液体输出部适于将液体喷洒至所述研磨部上，以对所述晶圆进行预研磨和/或后研磨及对所述研磨部进行清洗；

其中，所述液体输出部包括研磨液输出部（20）和清洗液输出部（21），所述研磨液输出部（20）适于将研磨液喷洒至所述研磨部上，所述清洗液输出部（21）适于将清洗液喷洒至所述研磨部上，以对所述晶圆进行清洗和后研磨；所述研磨平台的数量为三个且分别为第一研磨平台、第二研磨平台及第三研磨平台，所述研磨头（40）的数量为四个，四个所述研磨头（40）与三个所述研磨平台、一个所述装卸承载台一一对应设置，所述晶圆在所述第一研磨平台、所述第二研磨平台及所述第三研磨平台上的研磨均为主研磨。

2.根据权利要求1所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述承载部（10）包括动力部（11）和承载平台（12），所述承载平台（12）的上表面形成所述承载平面，所述动力部（11）与所述承载平台（12）连接，以驱动所述承载平台（12）绕其轴线转动。

3.根据权利要求2所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述研磨部的上表面上设有若干间隔设置的沟槽（51）。

4.根据权利要求2所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述承载部（10）的周围还设有防护罩（30），所述防护罩（30）用于防止液体或颗粒物的飞溅。

5.根据权利要求4所述的化学机械研磨设备，其特征在于，所述防护罩（30）包围承载平台（12）的周围和底部，所述防护罩（30）上设有排水口（31）。

6.一种化学机械研磨方法，使用权利要求1至5中任一项所述的化学机械研磨设备，其特征在于，包括：

在对晶圆进行主研磨之前和/或之后将所述晶圆放置在装卸承载台的研磨部上；

所述装卸承载台的液体输出部将液体喷洒至所述研磨部上，通过研磨头对所述晶圆进行预研磨和/或后研磨；

对所述研磨部进行清洗。

7.根据权利要求6所述的化学机械研磨方法，其特征在于，所述装卸承载台的液体输出部将液体喷洒至所述研磨部上，通过研磨头对所述晶圆进行预研磨和/或后研磨的步骤中，所述液体输出部所输出的研磨液的流量为50~80ml/min，和/或，所述预研磨的时间为5~8秒，和/或，所述研磨头的转速为45~50rpm/min，和/或，所述后研磨的时间为4~6秒。

8.根据权利要求7所述的化学机械研磨方法，其特征在于，对所述研磨部进行清洗的步骤中，所述液体输出部所输出的清洗液的流量200~250ml/min，和/或，清洗的时间为3~5秒，和/或，所述装卸承载台的承载部（10）的转速为50~60rpm/min。