[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

基板支承单元，支承基板；

液体供应单元，向由所述基板支承单元支承的所述基板供应液体，所述液体包括药液和清洗液中的任一种；

处理容器，容纳所述基板支承单元，并且回收从所述液体供应单元供应到所述基板的所述液体；以及

捕获模块，设置于所述处理容器，并且捕获从所述基板飞散的所述液体。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块以抑制从所述基板飞散的所述液体从所述处理容器反弹并再次飞散的方式捕获所述液体。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块包括用于捕获再次飞散的所述液体的网筛结构。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块以多层形态位于所述处理容器的内部以捕获所述液体。

5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块包括聚丙烯材质。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块的规格包括0.5T至1T范围的厚度和至少10mm的宽度。

7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块基于所述液体供应单元对所述基板供应所述药液，第一次捕获飞散到所述处理容器的所述药液，

所述捕获模块基于所述液体供应单元对所述基板供应所述清洗液，第二次捕获飞散到所述处理容器的所述清洗液，以及

所述捕获模块通过所述第二次捕获清洗预先被第一次捕获的所述药液。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述处理容器包括：

第一处理容器，位于最里面；

第二处理容器，与所述第一处理容器形成第一流入空间；以及

第三处理容器，与所述第二处理容器形成第二流入空间，

其中，所述捕获模块至少设置于所述第一流入空间和所述第二流入空间中的任一处以捕获所流入的所述液体。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块在所述处理容器的内壁上以滑动方式进退移动，从而以用于捕获所述液体的第一位置调整模式进行操作。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块以设置于所述处理容器的内壁的连接球为介质与所述处理容器的内壁间隔开设置。

11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块在所述连接球上以一定范围进行倾斜移动，从而以用于捕获所述液体的第二位置调整模式进行操作。

12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述捕获模块以单个或多个设置在所述处理容器上。