[发明专利]一种光学闪粉的制作方法

权利要求书

1.一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

对特定尺寸的母版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状；

利用专用显影液对所述母版进行显影处理，使所述图文、所述几何形状、所述光栅显现；

对经过所述显影处理的母版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版；

对所述镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的光学闪粉。

2.如权利要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述母版包括但不限于光刻胶版、镍板及PC版，对特定尺寸的母版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上包括：

将所述图文所在区域之外的区域刻写成第一光栅结构，所述第一光栅结构的光栅频率为第一频率值，对应的刻写功率为第一功率值；

将所述图文所在区域刻写成无光栅结构或光栅频率不等于所述第一频率值的光栅结构；

将所述几何形状的边框刻写成第二光栅结构，所述第二光栅结构对应的刻写功率为所述第一功率值的特定倍数。

3.如权利要求1或2所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述图文、几何形状的设计包括：

按照特定的排版方式排列设计所述图文，形成图文阵列，每个所述图文的尺寸和内容相同；

在所述图文阵列的基础上按照特定排版方式设计所述几何形状，所述几何形状的位置与所述图文的位置相匹配，每个几何形状的形状和尺寸相同。

4.如权利要求1或2所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述图文包括图形、数字、文字中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述对经过所述显影处理的母版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版包括：

通过UV组版方式，将多个所述母版组成更大面积的母版；

将所述更大面积的母版放入专用电铸机中进行金属化铸版，得到所述镭射版。

6.如权利要求2所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述第一频率值的范围为10至2500线对，所述特定倍数为3倍到10倍。

7.如要求要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述母版的尺寸范围为2英寸到20英寸，所述母版的胶层厚度为1微米到3微米。

8.一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

选取具有特定频率的镭射版；

在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状；

将带有所述图文、几何形状、光栅的镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的具有固定频率的光学闪粉。

9.如权利要求8所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状包括：

在所述具有特定频率的表面涂布光刻胶层，用高精掩膜制作出所述图文、所述几何形状、所述光栅，曝光显影使所述图文、几何形状、光栅显现。

10.如权利要求8所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状包括：

在所述具有特定频率的表面涂布光刻胶层，用高精度光刻机按设计文件进行刻写显影，使所述图文、几何形状、光栅显现。