[发明专利]一种用于硅片腐蚀的循环槽

说明书

本发明公开了一种用于硅片腐蚀的循环槽，其结构包括槽体，其创新点在于：槽体的左右两侧分别设有加液槽、循环流通槽，加液槽的宽度等于循环流通槽的宽度，加液槽和循环流通槽之间形成为浸液槽，加液槽和浸液槽的连接处设有出液板，出液板从上到下均匀分布有若干漏液孔，循环流通槽和浸液槽的连接处设有液位校准板，液位校准板的高度低于出液板，加液槽和循环流通槽之间相互连通且设有循环泵，浸液槽的底部设有出液管道，浸液槽和加液槽之间设有液位差检测件，液位差检测件用于判断浸液槽和加液槽之间的液位差，本发明保证了硅片持续浸渍的腐蚀效果。

技术领域：

本发明涉及一种硅料加工设备生产技术领域，尤其是一种用于硅片腐蚀的循环槽。

背景技术：

单晶硅在生长的过程中，会有一些其他杂质或者原子排列的不稳定性，使晶体排列出现差错，导致点缺陷和线缺陷的产生。对于这种点缺陷和线缺陷，需要借助显微镜、电镜等仪器进行观察。还可以利用硅原子表面的择优腐蚀方法，即将硅片水平放置于酸洗槽中，通过肉眼就能观察到有缺陷的部分，现有技术中，酸洗槽内部腐蚀液的循环方式多是四周向外循环，即不管花篮里面存放的硅片有多少，都必须是满槽的药液，然而这种酸洗槽用于实验设备时，酸洗槽的内部可能只有几个硅片，这就导致满槽的腐蚀液容易浪费，而如果只是根据硅片的数量向酸洗槽的内部添加相应容量的腐蚀液，由于腐蚀液具有挥发性，而且随着腐蚀液对硅片的腐蚀，腐蚀液自身也会出现一定的消耗，这就导致需要实验人员随时看着酸洗槽的旁边，一旦有所疏忽，很容易影响硅片的腐蚀效果。

发明内容：

本发明的目的提供一种用于硅片腐蚀的循环槽，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。

为解决上述技术问题，本发明提供一种用于硅片腐蚀的循环槽，其结构包括槽体，其创新点在于：槽体的左右两侧分别设有加液槽、循环流通槽，加液槽的宽度等于循环流通槽的宽度，加液槽和循环流通槽之间形成为浸液槽，加液槽和浸液槽的连接处设有出液板，出液板从上到下均匀分布有若干漏液孔，循环流通槽和浸液槽的连接处设有液位校准板，液位校准板的高度低于出液板，加液槽和循环流通槽之间相互连通且设有循环泵，浸液槽的底部设有出液管道；

浸液槽和加液槽之间设有液位差检测件，液位差检测件用于判断浸液槽和加液槽之间的液位差。

进一步的，上述出液板可拆卸的连接在槽体的底部，漏液孔的左侧设有向外凸起的流量调节槽，流量调节槽位于加液槽的内部，流量调节槽的内部设有可自由活动的阀球，漏液孔的右侧设有向外延伸的出液管，出液管位于浸液槽的内部。

进一步的，上述出液板的底部设有弧形卡板，槽体的底部设有弧形卡槽，弧形卡板卡入弧形卡槽的内部，使得出液板可拆卸的连接在槽体的底部。

进一步的，上述液位差检测件包括翘板以及两个浮力球，出液板的顶部设有固定杆，翘板的中心位置铰链连接在固定杆的顶部，翘板的两端设有对称的活动杆，两个活动杆分别位于加液槽、浸液槽的内部，活动杆的顶部铰链连接在翘板的端部，两个浮力球分别一一固定在两个活动杆的底部，两个浮力球的初始高度均和液位校准板的顶部相平齐。

进一步的，上述浸液槽的中心位置固定有花篮，花篮的顶部设有握柄，握柄延伸在液位校准板的上方。

本发明的有益效果在于：

1、本发明提供了一种用于硅片腐蚀的循环槽，随着腐蚀液的挥发以及硅片的腐蚀，补充腐蚀液会有一定的消耗，此时，通过液位差检测件能够直接判断加液槽内部的液位高度是否仍然高于浸液槽内部的高度，当出现加液槽内部的液位高度等于浸液槽内部的液位高度时，说明此时补充腐蚀液已经全部消耗，需要重新向加液槽的内部继续添加腐蚀液，以确保槽体内部腐蚀液的循环流动，从而确保硅片在浸液槽的内部可以始终充分浸渍在腐蚀液的内部，保证了硅片持续浸渍的腐蚀效果。