[发明专利]基于结构光相移的相位检测方法、电子装置及介质

权利要求书

1.一种基于结构光相移的相位检测方法，其特征在于，包括：

启动激光发射器，发射两束参考光在样品表面生成干涉场；

使用空间光调制器控制两束参考光相位相等，相位记为φ，扫描所述干涉场，得到第一个干涉场的强度信息；

调节所述空间光调制器，以使两束参考光的初始相位向前移动π/2，相位记为φ+π/2，再次扫描所述干涉场，得到第二个干涉场的强度信息；

调节所述空间光调制器，以使两束参考光的初始相位再次向前移动π/2，相位记为φ+π，再次扫描所述干涉场，得到第三个干涉场的强度信息；

调节所述空间光调制器，以使两束参考光的相位再次向前移动π/2，相位记为φ+3π/2，再次扫描所述干涉场，得到第四个干涉场的强度信息；

使用第一个、第二个、第三个、第四个干涉场的强度信息计算待测光场的相位分布。

2.根据权利要求1所述的基于结构光相移的相位检测方法，其特征在于，

所述干涉场的生成方法包括：使用两束所述参考光在所述样品表面形成结构光条纹，两束所述参考光与所述样品表面的待测光场发生干涉后，生成干涉场，所述待测光场为E_i，两束参考光形成的结构光条纹分别为第一光场E₁和第二光场E₂，所述干涉场的光场分布为E_t。

3.根据权利要求2所述的基于结构光相移的相位检测方法，其特征在于，

所述干涉场的强度信息的计算方法包括：

使用所述干涉场的光场分布计算所述干涉场的光场强度，得到所述干涉场的光场强度的第一表达式；

控制两束所述参考光的振幅相同，计算所第一表达式，得到所述干涉场的光场强度的第二表达式；

设置两束所述参考光的初始相位相同，计算所述第二表达式，得到所述干涉场的第三表达式；

使用所述第三表达式，计算初始相位Φ的待测光场与两束参考光干涉以后的新的场分布的强度信息，得到所述干涉场的强度信息计算关系式E_t(Φ)。

4.根据权利要求3所述的基于结构光相移的相位检测方法，其特征在于，

所述待测光场的相位分布的计算方法包括：

根据所述干涉场的强度信息计算关系式，得到第一个、第二个、第三个、第四个干涉场的强度信息；

使用第一个干涉场的强度信息减去第三个干涉场的强度信息，得到第一差值表达式；

使用第二个干涉场的强度信息减去第四个干涉场的强度信息，得到第二差值表达式；

结合所述第一差值表达式和所述第二差值表达式，计算得到所述待测光场的相位分布。

5.根据权利要求4所述的基于结构光相移的相位检测方法，其特征在于，

所述待测光场E_i、第一光场E₁、所述第二光场E₂和所述干涉场的光场分布E_t的表达式分别为：

其中v表示振幅，k_sp表示波矢，表示参考光的初始相位；

6.根据权利要求5所述的基于结构光相移的相位检测方法，其特征在于，

所述第一表达式为：

所述基于结构光相移的相位检测方法还包括：对所述第一表达式进行化简，得到：

控制两束所述参考光的振幅相同，得到v₁＝v₂＝v，所述第二表达式为：

所述两束所述参考光的初始相位相同为Φ，得到所述第三表达式为：

所述干涉场的强度信息计算关系式E_t(Φ)为：