[发明专利]一种用于管式镀膜设备的供源系统及供源方法

说明书

本申请公开一种用于管式镀膜设备的供源系统及供源方法，包括：三甲基铝供给柜，供给气态的三甲基铝；一级管路，连通于三甲基铝供给柜以输送气态的三甲基铝；二级管路，并列连通于一级管路以输送经一级管路输送的三甲基铝；多个分支管路，依次从二级管路分支出来并分别连通到对应的用于镀膜的工艺炉管；多个真空泵设置在二级管路的末端并且与工艺炉管一一对应，在一级管路上或者在二级管路上且在所有的分支管路的上游侧设置有总控制阀门；分支管路上且紧邻工艺炉管的入口处设置有分支阀门，在二级管路上且在所有的分支管路的下游侧设置有清洗阀门。本申请缩短了分支阀门与工艺炉管之间的管路长度，取消了后清洗，提高了三甲基铝供给柜的利用率。

技术领域

本申请涉及太阳能电池片技术领域，尤其涉及一种用于管式镀膜设备的供源系统及供源方法。

背景技术

在电池片生产过程中，需要用管式氧化铝镀膜设备给硅片镀氧化铝、氮化硅膜，从而增加电池片的电转换效率。

当前管式氧化铝镀膜设备设计一台三甲基铝供给柜为五根氧化铝工艺炉管提供源液供给，而控制每个工艺炉管通源的气动阀位置设置在靠近三甲基铝供给柜侧，使得三甲基铝供给柜至工艺炉管之间的管道变长，在通源结束后，由于工艺炉管需要打开，此时工艺炉管与外界连通，外界空气通过工艺炉管进入到气动阀与工艺炉管之间的管路中，管路中残留的三甲基铝会在空气的作用下分解和结晶，从而堵塞管路；

因此，在现有技术中为了避免管路堵塞，在通源结束后会对管路进行后清洗，继续供应清洗气体以将管路中残留的三甲基铝在气流的作用下排净，因而造成每个工艺炉管占用三甲基铝供给柜的时长增长，从而降低了三甲基铝供给柜的利用率。

发明内容

本申请的目的在于克服现有技术中通源后需要后清洗步骤导致每个工艺炉管占用三甲基铝供给柜的时长增长，使得三甲基铝供给柜利用率低的缺陷。

为此，本发明提供一种用于管式镀膜设备的供源系统，采用该系统不再需要利用三甲基铝供给柜对管路进行后清洗吹扫，降低单根工艺炉管占用蒸发器的时间，提高三甲基铝柜的利用率，使得每台三甲基铝柜可以匹配更多的工艺炉管以提高三甲基铝柜的利用率。

本发明技术方案如下：一种用于管式镀膜设备的供源系统，包括：三甲基铝供给柜，供给气态的三甲基铝；一级管路，连通于所述三甲基铝供给柜以输送所述三甲基铝供给柜供给的气态的三甲基铝；二级管路，连通于所述一级管路以输送经所述一级管路输送的气态的三甲基铝；多个分支管路，依次从所述二级管路分支出来并分别连通到对应的用于镀膜的工艺炉管；以及多个真空泵，设置在所述二级管路的末端并且与所述工艺炉管一一对应，其中，在所述一级管路上或者在所述二级管路上且在所有的所述分支管路的上游侧设置有总控制阀门；所述分支管路上且紧邻所述工艺炉管的入口处设置有控制接通或截断向对应的所述工艺炉管供给气态的三甲基铝的分支阀门，在所述二级管路上且在所有的所述分支管路的下游侧设置有控制接通或截断所述真空泵与所述一级管路和所述三甲基铝供给柜的连通的清洗阀门。

可选的是，所述三甲基铝供给柜包括用于注入第一气体的第一注入口、用于注入液态的三甲基铝的第二注入口、与所述第一注入口和所述第二注入口连通以将液态的所述三甲基铝气化成气态的三甲基铝的蒸发器以及与所述蒸发器连通以将所述第一气体或气化的所述三甲基铝输出到所述一级管路的出气口。

可选的是，在每个所述分支管路上且在所述工艺炉管的入口与所述分支阀门之间设置有用于注入第二气体的第三注入口，在所述第三注入口与所述分支管路之间设置有第三阀门。

本申请同时还提供一种用于管式镀膜设备的供源方法，采用该供源方法可以取消占用三甲基铝柜进行后清洗的步骤，降低高纯氮气用量的同时缩短单根工艺炉管占用三甲基铝柜的工艺时间，提高三甲基铝柜的利用率。