[发明专利]一种用于管式镀膜设备的供源系统及供源方法

权利要求书

1.一种用于管式镀膜设备的供源系统，其特征在于，包括：

三甲基铝供给柜(11)，供给气态的三甲基铝；

一级管路(12)，连通于所述三甲基铝供给柜(11)以输送所述三甲基铝供给柜(11)供给的气态的三甲基铝；

二级管路(13)，连通于所述一级管路(12)以输送经所述一级管路(12)输送的气态的三甲基铝；

多个分支管路(14)，依次从所述二级管路(13)分支出来并分别连通到对应的用于镀膜的工艺炉管(3)；以及

多个真空泵(6)，设置在所述二级管路(13)的末端并且与所述工艺炉管(3)一一对应，

其中，在所述一级管路(12)上或者在所述二级管路(13)且在所有的所述分支管路(14)的上游侧设置有总控制阀门(15)；

所述分支管路(14)上且紧邻所述工艺炉管(3)的入口处设置有控制接通或截断向对应的所述工艺炉管(3)供给气态的三甲基铝的分支阀门(2)，

在所述二级管路(13)且在所有的所述分支管路(14)的下游侧设置有控制接通或截断所述真空泵(6)与所述一级管路(12)和所述三甲基铝供给柜(11)的连通的清洗阀门(4)。

2.根据权利要求1所述的管式镀膜设备的供源系统，其特征在于，

所述三甲基铝供给柜(11)包括用于注入第一气体的第一注入口(114)、用于注入液态的三甲基铝的第二注入口(115)、与所述第一注入口(114)和所述第二注入口(115)连通以将液态的所述三甲基铝气化成气态的三甲基铝的蒸发器(113)以及与所述蒸发器(113)连通以将所述第一气体或气化的三甲基铝输出到所述一级管路(12)的出气口(116)。

3.根据权利要求2所述的用于管式镀膜设备的供源系统，其特征在于，

在每个所述分支管路(14)且在所述工艺炉管(3)的入口与所述分支阀门(2)之间设置有用于注入第二气体的第三注入口，在所述第三注入口与所述分支管路(14)之间设置有第三阀门(7)。

4.一种用于管式镀膜设备的供源方法，利用如权利要求1-3任一项所述的用于管式镀膜设备的供源系统，其特征在于，包括如下步骤：

S110：打开总控制阀门(15)；

S120：关闭所有分支阀门(2)；

S130：对其中一个工艺炉管进行前清扫和通源：

前清扫：打开清扫阀门(4)和与该工艺炉管(3)对应的真空泵(6)，通过三甲基铝供给柜(11)输入第一气体以对一级管路(12)、二级管路(13)以及与该工艺炉管(3)对应的分支管路(14)进行清扫，完成后关闭清扫阀门(4)；

通源：打开与该工艺炉管(3)连通的分支阀门(2)，通过三甲基铝供给柜(11)向该工艺炉管(3)通入第一气体和气态三甲基铝以进行镀膜，完成后关闭与该工艺炉管(3)连通的分支阀门(2)；

S140：在该工艺炉管的前清扫和通源结束后，基于相同的操作依次对其他工艺炉管进行前清扫和通源。

5.根据权利要求4所述的用于管式镀膜设备的供源方法，其特征在于，所述供源方法在步骤S130之后还包括：

S131：打开第三注入口注入第二气体以对该工艺炉管(3)的入口与所述分支阀门(2)之间的分支管路(14)进行后清扫，完成后关闭所述第三注入口，

其中步骤S131与步骤S140中对另一工艺炉管(3)的前清扫和通源同步进行。