[发明专利]热成像不均匀温度背景获取方法及缺陷检测方法

权利要求书

1.一种热成像不均匀温度背景获取方法，其特征在于，对热成像图像的每一行像素点进行解析，获取每一行像素点的不均匀温度背景；然后结合所有行像素点的不均匀温度背景构成整个热成像图像的不均匀温度背景；

获取每一行像素点的不均匀温度背景的方法包括以下步骤：

S11、设置非缺陷像素点集合和温度拟合模型，温度拟合模型为：

T(i)＝f_θ(i) (1)

其中，T(i)为该行第i个像素点的测量温度值，f表示测量温度值T(i)与像素点排序i的映射关系；θ表示温度拟合模型的模型参数；

S12、令i’为数集(2、3、4……N-1)中的任意值；

S13、将温度数据((1,T(1))、(N,T(N))、(i’,T(i’))代入温度拟合模型，求解模型参数θ＝θ1；(i’,T(i’))表示该行第i’个像素点的测量温度值为T(i’)；N为热成像图像的每一行像素点的数量；

S4、将θ＝θ1代入温度拟合模型获得温度预测模型：

T(i)＝f_θ1(i) (2)；

根据以上温度预测模型，计算该行各个像素点的预测温度T_f(i)；

S15、计算该行各个像素点的预测温差E(i)：

E(i)＝T(i)-T_f(i)； (3)

计算该行中E(i)0的像素点的数量记作N_pos+，计算该行中E(i)0的像素点的数量记作N_pos-；

S16、判断是否满足N_pos+-2N_pos-≥0；否，执行步骤S17；是，则将该像素点i’作为非缺陷像素点记入所述的非缺陷像素点集合，然后执行步骤S17；

S17、判断i’是否遍历(2、3、4……、N-1)；否，则更新i’，i’在(2、3、4……、N-1)内继续取值，然后返回步骤S13；是，则执行步骤S18；

S18、将非缺陷像素点集合中各非缺陷像素点i'与对应的测量温度T(i’)构成样本数据(i’,T(i’))，结合所有的样本数据对温度拟合模型进行拟合以求解模型参数θ＝θ’；

S19、获得该行的不均匀温度背景模型，记作：

T_g(i)＝f_θ'(i)； (4)

其中，T_g(i’)表示该行第i个像素点的不均匀温度背景温度值；

结合不均匀温度背景模型计算该行个像素点的不均匀温度背景温度值以构成该行的不均匀温度背景。

2.如权利要求1所述的热成像不均匀温度背景获取方法，其特征在于，温度拟合模型可采用抛物线公式，记作：

T(i)＝ai²+bi+c (1.1)

其中，a、b、c为抛物线参数，θ为a、b、c的集合。

3.如权利要求1所述的热成像不均匀温度背景获取方法，其特征在于，S12中令i’＝2，S17具体为：判断i’是否小于N-1；是，则令i’＝i’+1，然后返回步骤S13；否，则执行步骤S18。

4.如权利要求1所述的热成像不均匀温度背景获取方法，其特征在于，S18中采用最小二乘法拟合求解模型参数θ。

5.一种热成像缺陷检测方法，其特征在于，包括以下步骤：

S21、获取检测物体的热成像图像作为检测图像，并采用权利要求1-4任一项所述热成像不均匀温度背景获取方法获取检测图像的不均匀温度背景；

S22、计算检测图像上每个像素点的去背景温度值，去背景温度值为像素点的测量温度值与不均匀温度背景温度值的差值；

S23、根据检测图像上每个像素点的去背景温度值解析缺陷信息。