[发明专利]一种阵列基板及显示面板在审

专利信息
申请号: 202210259471.9 申请日: 2022-03-16
公开(公告)号: CN114695386A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 余文强;王超 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 黄锐
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 显示 面板
【说明书】:

本申请实施例公开了一种阵列基板及显示面板,阵列基板包括多条数据线、与数据线异层设置的有源层、与数据线和有源层异层设置的栅极、与数据线相连的源极以及与数据线和源极间隔设置的漏极;有源层包括依次连接的第一连接段、第二连接段和第三连接段,第一连接段与源极接触,第一连接段与数据线重叠设置,第三连接段位于相邻两条数据线之间,第二连接段与数据线部分重叠;栅极与有源层重叠设置;漏极与有源层裸露于相邻两条数据线之间的部分重叠,漏极与有源层裸露于相邻两条数据线之间的部分接触,可以降低漏极与有源层之间的接触电阻,提高薄膜晶体管的响应速度。

技术领域

本申请涉及显示领域,具体涉及一种阵列基板及显示面板。

背景技术

随着科技的发展,元宇宙(Metaverse)概念进入人们的视野,元宇宙是利用科技手段进行链接与创造的,与现实世界映射与交互的虚拟世界,具备新型社会体系的数字生活空间。由于元宇宙概念持续火热,受到资本和市场的强烈关注,作为下一代互联网发展方向,吸引各方软硬件着力开发。其中,微型显示屏幕是虚拟现实(Virtual Reality,VR)设备、增强现实(Augmented Reality,AR)设备等硬件实现交互的基础,也是进入“元宇宙”的核心技术之一。

微型显示屏幕决定了VR设备的分辨率以及易眩晕程度。要想提高VR设备的显示清晰程度,需要提高屏幕的分辨率,增加更多的像素点。为了提高屏幕的分辨率,需要将像素间距尽可能的减小,相应地,阵列基板的遮光区域也需要尽可能的减少,例如,数据线、扫描线、薄膜晶体管等需要尽可能的减小。

然而,当将薄膜晶体管的大小压缩到极致时,薄膜晶体管的有源层也会缩小,相应地,有源层延伸至漏极下方的部分也会变小,此时,漏极与其下方的有源层的接触面积较小,这会导致漏极与有源层的接触电阻高,降低薄膜晶体管的响应速度。

发明内容

本申请实施例提供一种阵列基板及显示面板,可以解决薄膜晶体管的漏极与有源层的接触电阻高,导致薄膜晶体管的响应速度慢的技术问题。

本申请实施例提供一种阵列基板,包括:

多条数据线;

有源层,与所述数据线异层设置,所述有源层包括依次连接的第一连接段、第二连接段和第三连接段,所述第一连接段与所述数据线在垂直于所述阵列基板的方向上重叠设置,所述第三连接段位于相邻两条所述数据线之间,所述第二连接段连接所述第一连接段与所述第三连接段,所述第二连接段与所述数据线在垂直于所述阵列基板的方向上部分重叠;

栅极,与所述数据线和所述有源层异层设置,且所述栅极与所述有源层在垂直于所述阵列基板的方向上重叠设置;

源极,与所述数据线相连,且所述源极与所述第一连接段接触;以及

漏极,与所述数据线和所述源极间隔设置,所述漏极与所述有源层裸露于相邻两条所述数据线之间的部分在垂直于所述阵列基板的方向上重叠,所述漏极与所述有源层裸露于相邻两条数据线之间的部分接触。

可选的,在本申请的一些实施例中,所述第二连接段呈直线型,所述第二连接段的延伸方向与所述数据线的延伸方向相交。

可选的,在本申请的一些实施例中,所述第二连接段的延伸方向和所述数据线的延伸方向的夹角为7°-22°。

可选的,在本申请的一些实施例中,所述第二连接段包括依次连接的多条子连接段。

可选的,在本申请的一些实施例中,所述子连接段呈直线型,所述子连接段的延伸方向与所述数据线的延伸方向相交。

可选的,在本申请的一些实施例中,所述子连接段的延伸方向与所述数据线的延伸方向之间具有倾斜夹角,多条所述子连接段的倾斜夹角由所述第一连接段朝所述第三连接段的方向呈渐增设置。

可选的,在本申请的一些实施例中,所述第二连接段呈弧型。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210259471.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top