[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种利用处理液对基板进行处理的基板处理装置，其特征在于，

所述基板处理装置具备：

处理液贮存部，其贮存所述处理液；

第一循环配管，其上游端与所述处理液贮存部连接，并且下游端与所述处理液贮存部连接，使所述处理液循环；

过滤器，其配置于所述第一循环配管，捕捉所述处理液中所含的颗粒；

泵，其配置于所述第一循环配管；以及

控制部，其控制所述泵，

所述泵具有旋转体，通过使所述旋转体旋转来送出所述处理液，

在驱动停止状态的所述泵的情况下，所述控制部控制所述泵，以使所述旋转体以400rpm/秒以下的旋转加速度旋转。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

在驱动停止状态的所述泵的情况下，所述控制部控制所述泵，以使所述旋转体以400rpm/秒以下的恒定旋转加速度旋转，

在所述旋转体的转速达到了目标转速的情况下，所述控制部控制所述泵，以使所述旋转体维持所述目标转速。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

在驱动停止状态的所述泵的情况下，所述控制部控制所述泵，以使所述旋转体以50rpm/秒以下的旋转加速度旋转。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板处理装置还具备：

第一排液配管，其与所述第一循环配管连接且从所述第一循环配管排出所述处理液；以及

第一排液阀，其配置于所述第一排液配管并对所述第一排液配管的流路进行开闭，

在驱动停止状态的所述泵的情况下，所述控制部控制所述第一排液阀，以使所述第一排液阀开放所述第一排液配管的流路。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板处理装置还具备：

第二排液配管，其从所述过滤器延伸并从所述过滤器排出所述处理液；以及

第二排液阀，其配置于所述第二排液配管并对所述第二排液配管的流路进行开闭，

在驱动停止状态的所述泵的情况下，所述控制部控制所述第二排液阀，以使所述第二排液阀开放所述第二排液配管的流路。

6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板处理装置还具备：

第一循环阀，其配置于所述第一循环配管并对所述第一循环配管的流路进行开闭；

第二循环配管，其从所述第一循环配管延伸至所述处理液贮存部；

第二循环阀，其配置于所述第二循环配管并对所述第二循环配管的流路进行开闭，

在驱动停止状态的所述泵的情况下，所述控制部控制所述第一循环阀，以使所述第一循环阀闭塞所述第一循环配管的流路，并且控制所述第二循环阀，以使所述第二循环阀开放所述第二循环配管的流路。

7.一种利用处理液对基板进行处理的基板处理方法，其特征在于，

所述基板处理方法包含：

第一旋转工序，在对在所述处理液循环的第一循环配管中配置于比过滤器更靠上游处的停止状态的泵进行驱动的情况下，以400rpm/秒以下的旋转加速度使所述泵的旋转体旋转；以及

处理液供给工序，在所述第一旋转工序之后，将由所述旋转体送出的所述处理液供给至所述基板。

8.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，

所述基板处理方法还包含第二旋转工序，

在所述第一旋转工序中，在驱动停止状态的所述泵的情况下，以400rpm/秒以下的恒定旋转加速度使所述旋转体旋转，

在所述第二旋转工序中，在所述旋转体的转速达到了目标转速的情况下，使所述旋转体维持所述目标转速，

在所述处理液供给工序中，在所述旋转体的转速维持为所述目标转速的状态下，向所述基板供给所述处理液。