[发明专利]碱溶性树脂、正型感光树脂组合物、固化膜及显示装置有效

专利信息
申请号: 202210208987.0 申请日: 2022-03-04
公开(公告)号: CN114561008B 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 周小明;王元强;肖桂林;鲁丽平;朱双全 申请(专利权)人: 武汉柔显科技股份有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10;G03F7/039;G09F9/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430057 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 碱溶性 树脂 感光 组合 固化 显示装置
【说明书】:

发明公开了涉及光电显示技术领域的碱溶性树脂、正型感光树脂组合物、固化膜及显示装置。该碱溶性树脂包含结构(a1)和结构(a2);所述结构(a1)包括结构式(a11)和/或结构式(a12),结构(a2)包括结构式(a21)、(a22)、(a23)中的任意一种或多种;所述结构式(a11)和结构式(a12)中,A为至少含6个碳的有机基团;所述结构式(a21)中R0表示碳原子数1~4的烃基,结构式(a21)、(a22)、(a23)中的*表示连接位置。包含本发明碱溶性树脂的正型感光树脂组合物具有高曝光敏感度、优异成像能力。

技术领域

本发明涉及光电显示技术领域,具体地说,涉及碱溶性树脂、正型感光树脂组合物、固化膜及显示装置。

背景技术

聚酰亚胺(PI)是一种理想的,具有优良的耐热性、力学性能、电绝缘性能和化学稳定性的聚合物材料,常被用在航天、半导体、光电子和微电子领域。相对普通聚酰亚胺,光敏性聚酰亚胺(PSPI)不需要借助其他光刻胶就能实现图形加工,缩短了工艺路线,是电子和微电子领域的理想绝缘材料。

近年来,随着半导体元件发展的细微化,半导体元件的中间层绝缘膜、钝化层等也需要更精细的曝光显影敏感度和图像分辨率;基于此,现有技术中常将光敏性聚酰亚胺树脂组合物清漆用于半导体元件表面,曝光后在碱液条件下显影,从而能够得到理想的图形;但这往往对光敏性聚酰亚胺树脂组合物的曝光敏感性和显影分辨率要求较高。

目前,已知的正型感光性树脂组合物有聚酰胺酸、聚酰胺酸/聚酰亚胺、聚酰胺酸酯/聚酰胺酸、聚酰胺酸酯/聚酰胺酸/聚酰亚胺等可溶性树脂加光产酸剂(如二叠氮萘醌)、热交联剂和溶剂的组合物。对于聚酰胺酸,聚酰胺酸在碱溶液中溶解性较大,添加光产酸剂二叠氮萘醌,在一定程度上能够使感光性树脂组合物对碱阻溶,但是曝光后图像分辨率低,图案不理想。因此为了调节聚酰胺酸的碱溶性,开发了聚酰胺酸/聚酰亚胺树脂组合物。但是由于聚酰胺酸/聚酰亚胺、聚酰胺酸酯/聚酰胺酸/聚酰亚胺树脂组合物中聚酰亚胺的比例对溶解性和紫外光的透过率有密切关系,对曝光敏感性和图像分辨率有较大的影响,酯基过多可能会导致显影缓慢(溶解速率慢)、对比度或图像解析度不良。此外,为提高聚酰亚胺的碱溶性,常通过引入酚羟基的方式提高其溶解性,但是会造成暗膜损失。

所以,提高曝光前后溶解度差异是获得高对比度、高分辨率、高敏感度光敏树脂组合物亟需解决的问题。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述技术问题,提供一种碱溶性树脂、正型感光树脂组合物、固化膜及显示装置。

本发明第一方面提供一种碱溶性树脂,所述碱溶性树脂包含结构(a1)和结构(a2);所述结构(a1)包括结构式(a11)和/或结构式(a12),结构(a2)包括结构式(a21)、(a22)、(a23)中的任意一种或多种;

所述结构式(a11)和结构式(a12)中,A为至少含6个碳的有机基团;

所述结构式(a21)中R0表示碳原子数1~4的烃基,结构式(a21)、(a22)、(a23)中的*表示连接位置。

优选地,所述碱溶性树脂优选包含结构式(a11)和结构(a2),其中结构(a2)包括结构式(a21)、(a22)、(a23)中的任意一种或多种。如,包含结构式(a11)和结构式(a21)的技术方案;或,包含结构式(a11)和结构式(a22)的技术方案;或,结构式(a11)和结构式(a23)的技术方案。

进一步地,所述结构式(a11)和/或结构式(a12)在碱溶性树脂中的比例为0.5mol%-20mol%,优选为0.5mol%-15mol%,更优选为0.5mol%-5mol%;

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