[发明专利]一种喷墨打印TFE图案化膜厚控制方法有效
申请号: | 202210207978.X | 申请日: | 2022-03-04 |
公开(公告)号: | CN114670547B | 公开(公告)日: | 2023-02-10 |
发明(设计)人: | 陈建魁;尹周平;易金虎;熊佳聪 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J2/07;B41J29/393;G06T7/62;G06T7/73;G06T7/90 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 尹丽媛 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 喷墨 打印 tfe 图案 化膜厚 控制 方法 | ||
1.一种喷墨打印TFE图案化膜厚控制方法,其特征在于,包括:
根据TFE期望膜厚和喷印TFE所用液体在基板上的扩散特性数据,以将液滴缩放至TFE期望膜厚为目标,缩放液滴在基板的点阵间距,再根据该点阵间距,基板像素坑位置及尺寸,TFE灰度图案大小,以及喷头各孔可打印墨滴体积与灰度值的对应关系,计算得到TFE灰度图案;
对每张TFE灰度图案进行喷头喷印路径规划,得到多个Pass打印图案及每个Pass喷头所在位置;
根据各打印点对应的喷孔喷射数据,以提高成膜厚度均匀性为目标,调整每个Pass打印图案中打印点喷头步进方向和/或喷孔喷印扫描方向密度以及关闭的喷孔所对应打印点相邻列的打印点灰度值,得到优化后的各Pass打印图案,其中,灰度图案打印点阵的列向为喷孔喷印扫描方向;
基于优化后的各Pass打印图案进行打印,对打印后的液膜进行厚度检测,根据液膜厚度和TFE期望膜厚判断是否进行补偿打印,若是,对补偿打印厚度进行所述喷头喷印路径规划,再根据液膜上缺陷位置调整规划图案中相应位置灰度值,得到补偿图案,执行补打印并重复液膜厚度检测,直至厚度合格;若否,完成喷墨打印TFE图案化膜厚控制。
2.根据权利要求1所述的一种喷墨打印TFE图案化膜厚控制方法,其特征在于,所述TFE灰度图案计算的具体实现方式为:
S1、接收数据,包括:TFE期望膜厚T,像素坑深度h,各体积的液滴在平面区域的临界成膜厚度t0和临界成膜间距d0,各体积的液滴在像素坑区域的临界成膜厚度t1和临界成膜间距d1;
S2、筛选t0≤T的液滴作为基板平面区域的备选液滴,同时筛选t1≤T+h的液滴作为基板像素坑区域的备选液滴;
S3、在基板各区域备选液滴中选择成膜最小液滴密度的液滴,并通过缩放喷头步进方向上和/或喷孔喷印扫描方向上的备选液滴在灰度图案打印点阵中的间距,以将该备选液滴缩放至TFE期望膜厚T;
其中,液滴间距的缩放方式为:
固定平面区域喷头步进方向上点阵间距为喷头可打印点阵最小间距s的k平倍;固定像素坑区域喷头步进方向点阵间距为喷头可打印点阵最小间距s的k坑倍,则平面区域和像素坑区域液滴Y向点阵间距D平y、D坑y分别为:D平y=k平s;D坑y=k坑s;缩放X向液滴间距,缩放后平面区域液滴X向间距缩放后像素坑区域X向液滴间距式中k平、k坑的选取应视液滴临界成膜间距和喷头可打印最小液滴间距合理选取,避免缩放后的X向或Y向液滴间距大于临界成膜间距;X向代表喷孔喷印扫描方向,Y向代表喷头步进方向;
S4、根据缩放后的点阵间距D坑y、D平y、D平x、D坑x,像素坑位置及尺寸,图案尺寸,以及灰度值与液滴体积对应关系,生成灰度图案二维点阵A,若A有m行n列,图案第i行第j列处像素点的灰度值用aij表示,则
其中,Dx为图案点阵在喷孔喷印扫描方向上的间距,Dy为图案点阵在喷头步进方向上的间距,完成TFE灰度图案的计算。
3.根据权利要求2所述的一种喷墨打印TFE图案化膜厚控制方法,其特征在于,采用过滤器,以对初步设计的所述TFE灰度图案分解为多张子TFE灰度图案。
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