[发明专利]一种倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法

权利要求书

1.一种倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法，其特征在于，采用激光反复扫描的方法在光纤上刻写倾斜布拉格光栅型偏振滤波器，并在刻写过程中，监测系统测量辐射模强度，当测得的辐射模强度偏离理论值时，反馈调整掩膜版与光纤的相对位置，使辐射模强度与理论值吻合；

待刻光纤的一端固定于电控位移台的夹具上，另一端固定于张力计上；待刻光纤的一端注入拟偏振滤波的光，采用以下两种方式中的一种测量辐射模强度：

将光强探测器固定于线性位移台上，位于待刻光纤的辐射模方向，光强探测器的光窗加装光阑；将光强探测器的光窗与反射镜调整至同一方向，同步启动搭载光强探测器的线性位移台和搭载反射镜的线性位移台，两个线性位移台移动的方向和速度一致，实现辐射模同步探测；当监测的辐射模强度相对于理论值之差大于阈值时，调整固定光纤的电控位移台，改变光纤位置，使辐射模增大；

或，将CCD安装于光纤的辐射模方向，拍摄光纤图像；通过图像的灰度分析，实现对辐射模强度的探测；当监测到的辐射模强度相对于理论值之差大于阈值时，调整固定光纤的电控位移台，改变光纤位置，使辐射模增大。

2.根据权利要求1所述的倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法，其特征在于，待刻写的光纤经增敏处理，通过夹具固定在掩膜版后方，激光器发出的紫外光经透镜汇聚后的激光经反射镜反射至掩膜版，激光被掩膜版调制形成明暗交替条纹后照射光纤，光纤吸收紫外光后，相对应形成折射率高低的空间分布，从而形成光纤光栅。

3.根据权利要求2所述的倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法，其特征在于，将辐射模调整至光纤的上方或下方；若待刻光纤为单模光纤，仅调制光纤与掩膜版的夹角为33.8°；若待刻光纤为保偏光纤，则需旋转光纤使光纤偏振主轴与刻写紫外光方向垂直。

4.根据权利要求3所述的倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法，其特征在于，使用保偏光纤刻写光栅时，在线完成轴向的对准，并使刻写的消光轴与光纤偏振主轴平行。

5.根据权利要求2所述的倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法，其特征在于，所述的增敏处理包括载氢增敏处理或掺杂处理。

6.根据权利要求1所述的倾斜光栅偏振滤波器的刻写方法，其特征在于，在CCD的镜头前装有可变光衰减器。