[发明专利]一种带磨砂亚光釉层的陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种带磨砂亚光釉层的陶瓷，其特征在于，所述陶瓷的釉层材料按重量份数计，包括如下物质：粘土50~70份，钙钛矿20-27份，二氧化钛10-16份，碳酸钙7-15份，凹凸棒土20-26份，钡硬锰矿10-19份、三氧化二钇5-9份、氧化硅30-40份、方解石8-17份、符山石12-18份、麦饭石20-30份、无水焦磷酸钠2-3份、霞石1-2份和长石2-5份。

2.根据权利要求1所述带磨砂亚光釉层的陶瓷，其特征在于，所述陶瓷的釉层材料按重量份数计，包括如下物质：粘土57~65份，钙钛矿22-25份，二氧化钛13-15份，碳酸钙10-13份，凹凸棒土22-24份，钡硬锰矿13-15份、三氧化二钇8份、氧化硅34-37份、方解石12-13份、符山石16份、麦饭石24-26份、无水焦磷酸钠2份、霞石1份和长石2份。

3.根据权利要求1或2所述带磨砂亚光釉层的陶瓷，其特征在于，所述陶瓷的胚体采用任意日用陶瓷胚体。

4.权利要求1或2所述带磨砂亚光釉层的陶瓷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）制作陶瓷胚体后烘干，备用；

（2）将粘土、钙钛矿、二氧化钛、碳酸钙、凹凸棒土、钡硬锰矿、三氧化二钇、方解石、符山石、麦饭石和无水焦磷酸钠混合，然后研磨，备用；按照釉层材料与水质量比为2~1：1进行混合，得到浆料；

（3）另外的霞石和长石研磨至600-800目后加入步骤（1）所得的浆料中；

（4）另外的二氧化硅单独研磨，备用；

（5）在步骤（1）制备得到的胚体表面上喷涂一层缩醛溶液；然后将步骤（4）中的研磨后二氧化硅均匀洒落在陶瓷坯体表面，然后涂覆上步骤（2）的浆料，然后喷雾干燥，烧制，即得。

5.根据权利要求4所述带磨砂亚光釉层的陶瓷的制备方法，其特征在于，所述二氧化硅研磨至45-50目。

6.根据权利要求4所述带磨砂亚光釉层的陶瓷的制备方法，其特征在于，所述粘土、钙钛矿、二氧化钛、碳酸钙、凹凸棒土、钡硬锰矿、三氧化二钇、方解石、符山石和麦饭石研磨至200-250目。

7.根据权利要求4所述带磨砂亚光釉层的陶瓷的制备方法，其特征在于，所述二氧化硅均匀洒落在陶瓷坯体表面满足：二氧化硅在陶瓷胚体表面0.2~0.6g/cm²。

8.根据权利要求4所述带磨砂亚光釉层的陶瓷的制备方法，其特征在于，步骤（4）中，所述烧制为：300~550℃停留1-2h，700~900℃停留1-2h，1100~1250℃停留3-5h。

9.根据权利要求4所述带磨砂亚光釉层的陶瓷的制备方法，其特征在于，步骤（5）中，所述缩醛溶液的质量百分比浓度为30~60% 。