[发明专利]一种进气装置及CVD设备有效
申请号: | 202210074266.5 | 申请日: | 2022-01-21 |
公开(公告)号: | CN114457321B | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 肖蕴章;黄帅帅;经军辉;陈炳安;钟国仿 | 申请(专利权)人: | 深圳市纳设智能装备有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 唐民 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明区凤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 cvd 设备 | ||
1.一种进气装置,应用于CVD设备,其特征在于,所述进气装置包括进气室本体、安装座、多孔透气件及挡风板;
所述安装座设置于所述进气室本体,所述多孔透气件设置于所述安装座与所述进气室本体之间,且所述多孔透气件与所述安装座之间形成至少三个气流调节腔,所述安装座上对应所述至少三个气流调节腔分别设有进气接口,所述进气接口用于向对应的所述气流调节腔导入反应气体,所述进气室本体对应所述至少三个气流调节腔分别设有导气室;
其中,每个所述气流调节腔中均设有与所述进气接口对应的所述挡风板,所述挡风板位于所述多孔透气件与所述安装座之间;
所述多孔透气件具有连通所述气流调节腔与所述导气室的细小孔群;
所述细小孔群包括多个细小孔,所述细小孔的孔径范围为0.3mm-1mm。
2.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述气流调节腔的数量为三个,对应的所述导气室设有三个,三个所述导气室分别为第一导气室及位于所述第一导气室两侧的第二导气室,其中,所述第一导气室的宽度大于所述第二导气室的宽度。
3.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述细小孔的孔径与数量成反比关系。
4.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述挡风板设置于所述安装座或所述多孔透气件上,且所述挡风板靠近所述进气接口的一侧设有球缺面。
5.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述进气接口处设有流量调节器和/或质量流量计。
6.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述进气室本体为高纯石英材质或不锈钢材质。
7.根据权利要求1所述的进气装置,其特征在于,所述安装座与所述进气室本体之间通过密封件实现密封配合。
8.一种CVD设备,应用于晶圆外延层的加工,其特征在于,所述CVD设备包括如权利要求1-7中任一项所述的进气装置。
9.根据权利要求8所述的CVD设备,其特征在于,所述导气室的出气侧均朝向所述晶圆的外周面,且位于所述进气室本体中间的所述导气室与所述晶圆对应,且宽度大于等于所述晶圆的直径。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的