[发明专利]一种ITO靶材废料的回收利用方法

说明书

本发明提供一种ITO靶材废料的回收利用方法，本发明主要是回收氧化铟含量90～95％的ITO废料，将ITO粉进行筛分，小于1mm的粉料和氧化铟进行球磨生产低含量二氧化锡的ITO靶材。该方法略去了将废料转化成金属铟，再生产成氧化铟的过程，大大降低了生产成本。本发明经过球磨生产低含量二氧化锡的ITO靶材，如97/3的ITO靶材，生产的97/3靶材相对密度可以达到99.7％，晶粒尺寸在10μm。本技术去除了回收粉末脱脂工序，直接乳化砂磨，缩短废料的回收工序，从而降低生产成本，提高了经济效益。

技术领域

本发明涉及电子陶瓷材料技术领域，具体涉及一种ITO靶材废料的回收利用方法。

背景技术

氧化铟锡靶材(ITO靶材)是一种电子陶瓷材料，主要用于磁控溅射镀制ITO膜。氧化铟锡靶材主要分为两类靶材：平面靶材和旋转靶材。广泛应用的主要是90/10、93/7、95/5(90/10是指氧化铟：氧化锡的质量比)的靶材，旋转靶材制备过程中产生大量的余料。如：ITO浆料的喷雾干燥，冷等静压后，靶材坯体表面凹凸不平，需要经过车床进行车床加工，在加工产生大量的余料，约有10％以上的车床余料。

这些余料粉末通常会经过回收工艺重新提炼成精铟，再生产氧化铟和ITO粉，大大增加了生产成本。要降低ITO靶材的生产成本，一方面要减少车床余料的产生，另一方面，要减少余料回收利用的成本。90/10，93/7和95/5的ITO靶材余料回收利用生产出相同比例的ITO靶材相对密度95％，难以到达要求。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术存在的不足之处而提供一种ITO靶材废料的回收利用方法。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

一种ITO靶材废料的回收利用方法，包括以下步骤：

(1)筛分：收集ITO车床废料进行筛分，选择筛网孔径小于1mm的筛网，收集粒径小于1mm的ITO靶材废料，粒径大于1mm的靶材废料进行破碎后再次过筛；

(2)将步骤(1)收集到的ITO粉料进行乳化砂磨，乳化机转速为5000～8000rpm，采用马尔文激光粒度测定仪测定其粒度，当ITO粉料的粒径D500.2μm且D900.5μm时，则为合格，停止砂磨；

(3)将氧化铟粉料进行乳化砂磨，采用马尔文激光粒度测定仪测定其粒度，当氧化铟粉料的粒径D500.2μm且D900.5μm时，则为合格，停止砂磨；

(4)将步骤(2)所得ITO浆料与步骤(3)所得氧化铟浆料混合砂磨，当混合浆料的粒径D500.2μm且D900.5μm时，加入粘结剂继续砂磨30～60min；

(5)将步骤(4)制得的混合浆料进行干燥，使混合浆料的水分含量为0.2～0.5％，得到ITO生坯；

(6)将ITO生坯转入模具中，进行冷等静压；

(7)将步骤(6)压制好的靶坯由150℃升至500℃进行脱脂烧结，升温过程中每升温100～150℃保温1～5h；脱脂烧结后，进行第一升温烧结，第一升温烧结是将温度由500℃升至1200℃进行烧结，升温过程中在温度升至900℃、1100℃、1200℃时各保温1～5h；第一升温烧结后，进行第二升温烧结，第二升温烧结是将温度由1200℃升至1600℃进行烧结，升温过程中每升温100～150℃保温1～10h；烧结过程中通入氧气，氧气流量为50～100L/min；

(8)保温结束后，降温至1350～1400℃，再升温至1550～1600℃，保温1～5h，得到ITO靶材。

本发明技术提供一种ITO靶材生产过程废料回收利用方法，该技术主要是回收氧化铟含量90～95％的ITO废料，将ITO粉进行筛分，小于1mm的粉料和氧化铟进行球磨生产低含量二氧化锡的ITO靶材。该方法略去了将废料转化成金属铟，再生产成氧化铟的过程，大大降低了生产成本。