[发明专利]一种光学膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光学膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

将高折射率涂液涂布于透明基膜的一表面保持常温0.5~1.5 min，然后在第一温度下干燥0.5~1min，再在第二温度下干燥1~2.5 min，后进行紫外照射得到高折射率层；其中，所述高折射率涂液中的溶剂包括能够侵蚀所述透明基膜的第一溶剂，所述第一溶剂占总溶剂的质量百分数为40 %及以上；第一温度小于第二温度，且第一温度小于溶剂的沸点；

最后在所述高折射率层的表面形成低折射率层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述透明基膜为TAC透明基膜，所述第一溶剂为丁酮、环己酮、环戊酮、乙酸乙酯和甲基环己酮中的至少一种；

或，所述透明基膜为PMMA透明基膜，所述第一溶剂为苯、甲苯和丙酮中的至少一种；

或，所述透明基膜为CPI透明基膜，所述第一溶剂为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和N-甲基吡咯烷酮中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率涂液的固含量为15~25%，所述高折射率涂液的涂覆量为20~42 g/m²。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述低折射率层的制备方法包括：

将低折射率涂液涂布于所述高折射率层的表面，然后在70~100℃条件下干燥1~3 min，再在氧气浓度小于500 ppm、光剂量在300~500 mj/cm²的条件下紫外照射，得到低折射率层。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率层与所述透明基膜的折射率差的绝对值在0.03~0.12范围内，所述高折射率层比所述低折射率层的折射率大0.12~0.25；

所述高折射率涂液中含有折射率调整液；其中，所述折射率调整液包括氧化钛分散液和氧化锆分散液中的至少一种。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述低折射率涂液的固含量为2~3 %，所述低折射率涂液的涂覆量为3~10 g/m²。

7.根据权利要求1~6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率涂液中含有低聚物，所述高折射率涂液中的溶剂还包括能够溶解所述低聚物的第二溶剂，所述第一溶剂占总溶剂的质量百分数为40~70 %。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，如果所述第一溶剂包括低沸点溶剂，则所述第二溶剂包括高沸点溶剂；

如果所述第一溶剂包括高沸点溶剂，则所述第二溶剂包括低沸点溶剂。

9.一种光学膜，其特征在于，由权利要求1~8任一项所述的制备方法制备得到。

10.根据权利要求9所述的光学膜，其特征在于，所述光学膜的透明基膜的厚度为25~250 μm；高折射率层的厚度为3~5m，低折射率层的厚度为0.09~0.11 m。