[发明专利]显示基板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202210005671.1 申请日: 2022-01-05
公开(公告)号: CN114361186A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 龙祎璇;杨慧娟;尚庭华;刘彪;牛佐吉;陈家兴;张毅 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 显示装置
【说明书】:

发明提供一种显示基板和显示装置,涉及显示技术领域,用于降低像素电路的功耗。所述显示基板包括:设置于基底上的多个子像素以及设置于基底上的第一扫描线和数据线;子像素中数据写入晶体管的栅极与对应的第一扫描线耦接,数据写入晶体管的第一极与对应的数据线耦接,数据写入晶体管的第二极与驱动晶体管的第一极耦接;驱动晶体管的栅极与第一导电连接部的第一端耦接;第一导电连接部的第二端分别与补偿晶体管的第二极和补偿图形耦接;补偿晶体管的第二极在基底上的正投影,与对应的第一扫描线在基底上的正投影至少部分交叠;补偿图形在基底上的正投影,与对应的第一扫描线在基底上的正投影至少部分交叠。本发明提供的显示基板用显示。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板和显示装置。

背景技术

低温多晶硅(英文:Low Temperature Poly-Silicon,简称:LTPS)像素电路漏电流较大,不利于节点电压的保持。在像素电路中加入氧化物晶体管(Oxide TFT),将Oxide TFT与LTPS TFT相结合,形成低温多晶氧化物(英文:Low Temperature PolycrystallineOxide,简称:LTPO)像素电路。LTPO像素电路能够改善漏电问题,有利于提升像素电路工作的稳定性。但是LTPO像素电路仍然存在功耗较高的问题需要解决。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板和显示装置,用于降低LTPO像素电路的功耗。

为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

本发明的第一方面提供一种显示基板,包括:基底,设置于所述基底上的多个子像素,以及设置于所述基底上的多条第一扫描线和多条数据线;所述子像素包括:数据写入晶体管,驱动晶体管,补偿晶体管,第一导电连接部和补偿图形;

所述数据写入晶体管的栅极与对应的所述第一扫描线耦接,所述数据写入晶体管的第一极与对应的所述数据线耦接,所述数据写入晶体管的第二极与所述驱动晶体管的第一极耦接;

所述驱动晶体管的栅极与所述第一导电连接部的第一端耦接;

所述第一导电连接部的第二端分别与所述补偿晶体管的第二极和所述补偿图形耦接;

所述补偿晶体管的第二极在所述基底上的正投影,与对应的所述第一扫描线在所述基底上的正投影至少部分交叠;所述补偿图形在所述基底上的正投影,与对应的所述第一扫描线在所述基底上的正投影至少部分交叠。

可选的,所述补偿晶体管包括第二有源层,所述第二有源层包括沿第一方向延伸的至少部分;

所述第二有源层的第二端作为所述补偿晶体管的第二极,所述第二有源层的第二端在所述基底上的正投影,与所述补偿图形在所述基底上的正投影沿第二方向排列,所述第二方向与所述第一方向相交。

可选的,所述第一导电连接部的第二端包括沿所述第二方向延伸的至少部分;

所述第一导电连接部的第二端在所述基底上的正投影,分别与所述第二有源层的第二端在所述基底上的正投影,以及所述补偿图形在所述基底上的正投影至少部分交叠。

可选的,所述显示基板还包括多条第二扫描线,所述补偿晶体管的栅极与对应的所述第二扫描线耦接;所述第一导电连接部在所述基底上的正投影,与所述第二扫描线在所述基底上的正投影至少部分交叠。

可选的,所述第二扫描线包括层叠设置的第一扫描层和第二扫描层,所述第一扫描层的至少部分位于所述基底和所述第二扫描层之间;

所述第二扫描层包括扫描主体部和扫描突出部,所述扫描主体部沿第二方向延伸,所述扫描突出部在所述基底上的正投影的至少部分,位于所述扫描主体部在所述基底上的正投影和所述补偿图形在所述基底上的正投影之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210005671.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top