[发明专利]自由基产生膜形成组合物、自由基产生膜、液晶显示元件的制造方法及液晶显示元件在审

专利信息
申请号: 202180073116.6 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN116507643A 公开(公告)日: 2023-07-28
发明(设计)人: 野田尚宏;三宅一世;大田政太郎 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: C08F2/00 分类号: C08F2/00
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 龚敏;王刚
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 自由基 产生 形成 组合 液晶显示 元件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种自由基产生膜形成组合物,其特征在于,含有下述成分:

成分(A):用作横向电场驱动用液晶取向剂的取向成分的聚合物、及

成分(B):具有下述式(1)所表示的基团的含硅化合物,

*-R1-R2-R3  (1)

式(1)中,*表示键合部位;R1表示单键、-CH2-、-O-、-COO-、-OCO-、-NHCO-、-CONH-、-NH-、-CH2O-、-N(CH3)-、-CON(CH3)-或-N(CH3)CO-;

R2表示单键、或者未被取代或被氟原子取代的碳原子数为1~20的亚烷基,该亚烷基的任意的1个以上的-CH2-或-CF2-各自独立地被或不被选自-CH=CH-、2价碳环、及2价杂环中的基团替代,进而,该亚烷基的任意的1个以上的-CH2-或-CF2-以下面列举的任一基团、即-O-、-COO-、-OCO-、-NHCO-、-CONH-或-NH-彼此不相邻为条件,被或不被这些中的至少任一个基团替代;

R3表示诱发自由基聚合的有机基团。

2.根据权利要求1所述的自由基产生膜形成组合物,其中,所述具有式(1)所表示的基团的含硅化合物为下述式(2)所表示的含硅化合物、包含下述式(2)所表示的含硅化合物的水解性有机硅化合物的水解缩合物、及使用下述式(2)所表示的含硅化合物进行了表面修饰的微粒中的至少任一者,

式(2)中,Z为所述式(1)所表示的基团,R各自独立地表示氢原子或碳原子数为1~5的烷基,R4表示碳原子数为1~10的亚烷基,R'表示碳原子数为1~5的烷基,x表示2或3。

3.根据权利要求1或2所述的自由基产生膜形成组合物,其中,R3表示下述式[X-1]~[X-18]、[W]、[Y]或[Z]所表示的诱发自由基聚合的有机基团,

式[X-1]~[X-18]中,*表示键合部位;S1和S2各自独立地表示-O-、-NR-或-S-,其中,R表示氢原子、或碳原子数为1~10的烷基,所述碳原子数为1~10的烷基中,碳原子数为2~10的烷基的-CH2-基团的一部分被或不被氧原子替代,其中,在S2R或NR中,在所述烷基的-CH2-基团的一部分被氧原子替代的情况下,所述氧原子不直接键合于S2或N;R1和R2各自独立地表示氢原子、卤素原子或碳原子数为1~4的烷基,

式[W]、[Y]和[Z]中,*表示键合部位;Ar表示选自由具有或不具有有机基团和/或卤素原子作为取代基的亚苯基、亚萘基和亚联苯基组成的组中的芳香族烃基,R9和R10各自独立地表示碳原子数为1~10的烷基或碳原子数为1~10的烷氧基,当R9和R10为烷基时,在末端相互键合而形成环结构、或未形成环结构;

Q表示下述任一结构,

*-OR

上式中,R11表示-CH2-、-NR-、-O-或-S-;R各自独立地表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基;*表示键合部位;

S3表示单键、-O-、-NR-、或-S-,其中,R表示氢原子或碳原子数为1~14的烷基;R12表示氢原子、卤素原子、碳原子数为1~10的烷基或碳原子数为1~10的烷氧基。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的自由基产生膜形成组合物,其中,作为所述成分(A)的所述聚合物为聚酰亚胺前体或聚酰亚胺。

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